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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第189位 230件 (2010年:第172位 293件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第194位 188件 (2010年:第158位 203件)
(ランキング更新日:2024年12月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-155225 | 太陽電池評価装置および太陽電池評価方法 | 2011年 8月11日 | 共同出願 |
特開 2011-150628 | スケジュール作成装置およびスケジュール作成プログラム | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-151050 | 基板処理装置 | 2011年 8月 4日 | |
特開 2011-143320 | 基板洗浄処理装置 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-146592 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2011年 7月28日 | |
特開 2011-146461 | 動作情報生成装置、動作確認装置、基板処理システムおよび動作情報生成プログラム | 2011年 7月28日 | |
再表 2009-116255 | 画像記録装置 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-142237 | 基板処理装置 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-139099 | 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-135014 | 基板処理装置 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-125779 | 塗布方法および塗布装置 | 2011年 6月30日 | |
特開 2011-129758 | 基板処理装置 | 2011年 6月30日 | |
特開 2011-129641 | 配線形成方法および配線形成装置 | 2011年 6月30日 | |
特開 2011-121016 | パターン形成方法およびパターン形成装置 | 2011年 6月23日 | |
特開 2011-121009 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2011年 6月23日 |
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2011-155225 2011-150628 2011-151050 2011-143320 2011-146592 2011-146461 2009-116255 2011-142237 2011-139099 2011-135014 2011-125779 2011-129758 2011-129641 2011-121016 2011-121009
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