※ ログインすれば出願人(株式会社島津製作所)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第97位 479件
(2011年:第80位 506件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第74位 511件
(2011年:第60位 534件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-221594 | アレイ検査装置およびアレイ検査方法 | 2012年11月12日 | |
特開 2012-220365 | 糖ペプチド解析方法及び解析装置 | 2012年11月12日 | |
特開 2012-220472 | 分光測定装置及びプログラム | 2012年11月12日 | |
特開 2012-222287 | プラズマCVD成膜装置および基板搭載装置 | 2012年11月12日 | |
特開 2012-222179 | プリント配線板 | 2012年11月12日 | |
特開 2012-221987 | 基板カート、薄膜形成装置および太陽電池製造用薄膜形成装置 | 2012年11月12日 | |
再表 2010-137132 | 陰イオン測定方法 | 2012年11月12日 | |
再表 2010-134295 | 同期型グリッドの箔影除去方法およびそれを用いた放射線撮影装置 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-216589 | 積層ウェハの接着剤注入装置および接着剤注入方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215483 | 蛍光X線分析装置 | 2012年11月 8日 | |
再表 2010-128556 | X線透視撮影台 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-211770 | 電子線分析装置 | 2012年11月 1日 | |
再表 2010-131365 | 表面波プラズマCVD装置および成膜方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-211870 | マイクロチップ及びその製造方法 | 2012年11月 1日 | |
再表 2010-131366 | 表面波プラズマCVD装置および成膜方法 | 2012年11月 1日 |
479 件中 91-105 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2012-221594 2012-220365 2012-220472 2012-222287 2012-222179 2012-221987 2010-137132 2010-134295 2012-216589 2012-215483 2010-128556 2012-211770 2010-131365 2012-211870 2010-131366
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社島津製作所の知財の動向チェックに便利です。
兵庫県西宮市高木西町18番5号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
〒152-0034 東京都目黒区緑が丘一丁目16番7号 意匠 商標 外国商標 訴訟 コンサルティング
東京都練馬区豊玉北6-11-3 長田ビル3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 鑑定 コンサルティング