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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第612位 52件 (2013年:第612位 59件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第479位 74件 (2013年:第476位 74件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5589196 | ZnS蛍光体を用いた中性子検出用シンチレータ及び粒子線検出用シンチレータ | 2014年 9月17日 | 共同出願 |
特許 5590527 | テクネチウム99mジェネレータからのモリブデン回収方法 | 2014年 9月17日 | 共同出願 |
特許 5585953 | 原子力施設における放射線管理区域貫通処理方法 | 2014年 9月10日 | 共同出願 |
特許 5584859 | 合金燃料製造装置 | 2014年 9月10日 | 共同出願 |
特許 5582435 | 高分子材料の微細構造形成方法、微細構造体 | 2014年 9月 3日 | |
特許 5578557 | 金属イオン捕集材の製造方法 | 2014年 8月27日 | |
特許 5572842 | 析出強化型Ni基耐熱合金およびその製造方法 | 2014年 8月20日 | 共同出願 |
特許 5569834 | 高密度,高純度(n,γ)99Moを製造する方法 | 2014年 8月13日 | 共同出願 |
特許 5565768 | 基板加工方法および半導体装置の製造方法 | 2014年 8月 6日 | |
特許 5565719 | エマルションフローを利用した連続液−液抽出装置 | 2014年 8月 6日 | |
特許 5555869 | 製品添加によるマイクロ波吸収・発熱効果を利用した酸化ニッケルの製造方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5557231 | 多孔質セラミックス繊維体の製造方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5550063 | 溶湯処理装置 | 2014年 7月16日 | 共同出願 |
特許 5548892 | ピクセル型二次元イメージ検出器 | 2014年 7月16日 | 共同出願 |
特許 5545609 | 芳香族高分子膜基材からなる高分子電解質膜、及び、その製造方法 | 2014年 7月 9日 |
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5589196 5590527 5585953 5584859 5582435 5578557 5572842 5569834 5565768 5565719 5555869 5557231 5550063 5548892 5545609
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2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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