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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第664位 50件 (2010年:第701位 53件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第622位 49件 (2010年:第698位 35件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-93754 | 五酸化アンチモン系複合酸化物微粒子、該微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-88044 | 炭化水素油の水素化脱硫触媒 | 2011年 5月 6日 | 共同出願 |
特開 2011-83751 | オキシクロリネーション用触媒の製造方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-73332 | インク受容層形成用塗布液およびインク受容層付記録用シート | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-72933 | 炭化水素の水素化触媒及び炭化水素の水素化触媒の製造方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-68087 | ハードコート膜付基材およびハードコート膜形成用塗布液 | 2011年 4月 7日 | |
特開 2011-63478 | リン含有五酸化アンチモン微粒子および該微粒子を含む透明導電性被膜形成用塗布液ならびに透明導電性被膜付基材 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-57856 | 改質シクロデキストリン粒子分散液及びその製造方法 | 2011年 3月24日 | |
特開 2011-59692 | 液晶表示セル | 2011年 3月24日 | |
特開 2011-57988 | インクジェット記録用インクおよび印刷基材 | 2011年 3月24日 | |
特開 2011-51972 | 有機無機複合粒子並びにその製造方法、該粒子を含む分散液および該粒子を配合した化粧料 | 2011年 3月17日 | |
特開 2011-46606 | シリカ系微粒子、被膜形成用塗料および被膜付基材 | 2011年 3月10日 | |
特開 2011-42546 | カチオン化シリカゾルの製造方法 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-37659 | コアシェル型複合酸化物微粒子の分散液および該分散液の製造方法、該コアシェル型複合酸化物微粒子を含む塗料組成物、硬化性塗膜および硬化性塗膜付き基材 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-32126 | 硫酸銅水溶液の製造方法 | 2011年 2月17日 |
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2011-93754 2011-88044 2011-83751 2011-73332 2011-72933 2011-68087 2011-63478 2011-57856 2011-59692 2011-57988 2011-51972 2011-46606 2011-42546 2011-37659 2011-32126
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11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月28日(木) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月4日(水) - 東京 千代田区
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12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
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12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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