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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第270位 155件
(2011年:第2279位 9件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第225位 172件
(2011年:第1927位 11件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4955277 | 絶縁膜の形成方法 | 2012年 6月20日 | |
特許 4951580 | 半導体ウエハの製造方法 | 2012年 6月13日 | 共同出願 |
特許 4949673 | 半導体加速度センサおよびその製造方法 | 2012年 6月13日 | 共同出願 |
特許 4951304 | 半導体装置 | 2012年 6月13日 | |
特許 4949719 | 半導体装置及びその製造方法 | 2012年 6月13日 | |
特許 4953078 | 無線LAN端末およびその通信方法 | 2012年 6月13日 | |
特許 4947965 | 透過型電子顕微鏡用の試料の作製方法、観察方法及び構造 | 2012年 6月 6日 | |
特許 4945125 | メモリ制御装置 | 2012年 6月 6日 | |
特許 4947964 | 半導体装置及びその製造方法 | 2012年 6月 6日 | |
特許 4947914 | 半導体装置およびその製造方法 | 2012年 6月 6日 | |
特許 4945226 | トリミング回路 | 2012年 6月 6日 | |
特許 4943172 | シリコンエピタキシャル膜を有するSOS基板の形成法 | 2012年 5月30日 | |
特許 4937953 | ウェハ搬送装置 | 2012年 5月23日 | 共同出願 |
特許 4938243 | 半導体装置及びその製造方法、並びに、半導体ウエハ及び半導体ウエハの製造方法 | 2012年 5月23日 | |
特許 4939285 | レベルシフタ | 2012年 5月23日 |
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4955277 4951580 4949673 4951304 4949719 4953078 4947965 4945125 4947964 4947914 4945226 4943172 4937953 4938243 4939285
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6月18日(水) -
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6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
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