※ ログインすれば出願人(三井造船株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第232位 185件
(2010年:第248位 198件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第199位 181件
(2010年:第174位 190件)
(ランキング更新日:2025年6月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-198832 | 半導体基板熱処理装置および半導体基板熱処理装置による温度計測方法 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-194546 | 超音波加工装置 | 2011年10月 6日 | |
特開 2011-192768 | 原子層堆積装置及び原子層堆積方法 | 2011年 9月29日 | |
特開 2011-187802 | 薄膜形成装置 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187463 | 薄膜形成装置 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-187636 | 半導体基板熱処理装置および半導体基板熱処理装置による温度推定方法 | 2011年 9月22日 | |
特開 2011-181217 | 誘導加熱方法および誘導加熱装置 | 2011年 9月15日 | |
特開 2011-179096 | 薄膜形成装置 | 2011年 9月15日 | |
特開 2011-181681 | 原子層堆積方法及び原子層堆積装置 | 2011年 9月15日 | |
特開 2011-181832 | 薄膜形成装置 | 2011年 9月15日 | |
特開 2011-181526 | 二次電池用正極材料、その製造方法、および二次電池 | 2011年 9月15日 | 共同出願 |
特開 2011-174798 | スペクトラム分析装置及びスペクトラム分析方法 | 2011年 9月 8日 | |
特開 2011-174791 | 蛍光検査装置及び蛍光検査方法 | 2011年 9月 8日 | |
特開 2011-174128 | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 | 2011年 9月 8日 | |
特開 2011-171361 | 原子層堆積装置及び原子層堆積方法 | 2011年 9月 1日 |
185 件中 76-90 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-198832 2011-194546 2011-192768 2011-187802 2011-187463 2011-187636 2011-181217 2011-179096 2011-181681 2011-181832 2011-181526 2011-174798 2011-174791 2011-174128 2011-171361
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三井造船株式会社の知財の動向チェックに便利です。
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
6月4日(水) -
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
〒170-0013 東京都豊島区東池袋3丁目9-10 池袋FNビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒330-0846 埼玉県さいたま市大宮区大門町3-205 ABCビル401 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
兵庫県西宮市高木西町18番5号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング