ホーム > 特許ランキング > 芝浦メカトロニクス株式会社 > 2014年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(芝浦メカトロニクス株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第633位 50件 (2013年:第512位 75件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第479位 74件 (2013年:第361位 106件)
(ランキング更新日:2025年1月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5576173 | 半導体装置の製造装置 | 2014年 8月20日 | |
特許 5565892 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、および電子デバイスの製造方法 | 2014年 8月 6日 | |
特許 5562115 | 基板処理装置および貼り合わせ基板の製造方法 | 2014年 7月30日 | |
特許 5554133 | 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5558882 | 配線形成用材料及び塗布装置 | 2014年 7月23日 | |
特許 5558743 | ペースト塗布装置及びペースト塗布方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5558993 | 接着剤供給装置及び接着剤供給方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5551482 | 基板貼り合わせ装置及び貼り合わせ基板の製造方法 | 2014年 7月16日 | |
特許 5544055 | インクジェット塗布装置 | 2014年 7月 9日 | |
特許 5546757 | プラズマ密度測定子、プラズマ密度測定装置、プラズマ処理装置、およびプラズマ密度測定方法 | 2014年 7月 9日 | |
特許 5536311 | 半導体ウェーハの平坦化方法、及び半導体ウェーハの製造方法 | 2014年 7月 2日 | 共同出願 |
特許 5534853 | レーザ照射装置およびレーザ照射方法 | 2014年 7月 2日 | |
特許 5534601 | 切削液供給装置 | 2014年 7月 2日 | |
特許 5528149 | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5528280 | 電子部品の実装装置 | 2014年 6月25日 |
74 件中 16-30 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5576173 5565892 5562115 5554133 5558882 5558743 5558993 5551482 5544055 5546757 5536311 5534853 5534601 5528149 5528280
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。芝浦メカトロニクス株式会社の知財の動向チェックに便利です。
1月20日(月) -
1月20日(月) - 大阪 大阪市
1月21日(火) -
1月21日(火) -
1月21日(火) - 東京 港区
1月21日(火) - 大阪 大阪市
1月22日(水) - 東京 港区
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月22日(水) - 大阪 大阪市
1月22日(水) - 東京 千代田区
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) - 東京 港区
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月24日(金) - 東京 港区
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) -
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) - 大阪 大阪市
1月24日(金) - 神奈川 川崎市
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月20日(月) -
1月27日(月) - 東京 港区
1月28日(火) - 東京 港区
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) - 大阪 大阪市
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 品川区
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) - 東京 港区
1月31日(金) -
1月27日(月) - 東京 港区
〒248-0006 神奈川県鎌倉市小町2-11-14 山中MRビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都新宿区四谷2-12-5 四谷ISYビル3階 PDI特許商標事務所内 特許・実用新案 訴訟 鑑定 コンサルティング