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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第644位 50件
(2011年:第869位 34件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第720位 44件
(2011年:第524位 61件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4920044 | 1ステージの遅延による投機的なアドレスデコーダ | 2012年 4月18日 | |
特許 4920156 | アントレーニングを備えるストア−ロード転送プレディクタ | 2012年 4月18日 | |
特許 4912293 | コンタクトホールの製造システムおよび方法 | 2012年 4月11日 | |
特許 4906226 | マルチプロセッサコンピュータシステムにおいて、ポストされたリクエストのための別個のバーチャルチャネルを実現するためのシステムおよび方法 | 2012年 3月28日 | 共同出願 |
特許 4896292 | NANDフラッシュ・メモリ装置の半導体製造方法 | 2012年 3月14日 | 共同出願 |
特許 4889901 | 深い接合を有するソース/ドレイン領域を形成する方法 | 2012年 3月 7日 | |
特許 4890448 | 相異なるチャネル領域に相異なるよう調整された内在応力を有するエッチストップ層を形成することによって、相異なる機械的応力を生成するための技術 | 2012年 3月 7日 | |
特許 4886165 | デポジション処理によって、相互接続領域を選択的に合金にする方法 | 2012年 2月29日 | |
特許 4886160 | セルフアセンブリによるポリマーフィルムを用いた記憶装置およびその製造方法 | 2012年 2月29日 | |
特許 4880512 | モデル予測制御を用いた、半導体製作における個別部品の生産を制御するための方法およびコントローラ装置 | 2012年 2月22日 | |
特許 4875075 | セキュアパッチシステム | 2012年 2月15日 | |
特許 4866549 | 低減された界面粗さ(界面ラフネス)を有するニッケルシリサイド | 2012年 2月 1日 | |
特許 4864290 | 半導体デバイス上の構造の寸法を測定するために使用される、非破壊光波測定(光波散乱計測)(scatterometry)に基づいた測定ツールを較正する方法と構造 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4849773 | 自動生産システム | 2012年 1月11日 |
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4920044 4920156 4912293 4906226 4896292 4889901 4890448 4886165 4886160 4880512 4875075 4866549 4864290 4849773
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