ホーム > 特許ランキング > アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド > 2013年 > 特許一覧
アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド
※ ログインすれば出願人(アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第520位 74件
（
2012年：第644位 50件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第797位 39件
（
2012年：第720位 44件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5204762 | ボディポテンシャルが低減したＳＯＩトランジスタの製造方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5204645 | 強化した応力伝送効率でコンタクト絶縁層を形成する技術 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5197849 | チップ内能動的熱伝達システムを備えた半導体デバイス | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5165179 | フィードフォワードオーバーレイ情報を導入したフォトリソグラフィー・オーバーレイ整合を制御するための方法および装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5148814 | 漏れ電流を減少させ、単位面積あたりのキャパシタンスを改善した、電界効果トランジスタおよび受動コンデンサを有する半導体装置 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5149301 | 引張歪みおよび圧縮歪みを生成するための埋め込みＳｉ／Ｇｅ材料を含むＮＭＯＳトランジスタおよびＰＭＯＳトランジスタを有する半導体デバイス | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5140073 | 低接触抵抗ＣＭＯＳ回路およびその製造方法 | 2013年 2月 6日 | |
| 特許 5134625 | ＡＰＣ制御ストラテジーにより露光フィールド内のオーバーレイ誤差を小さくする方法およびシステム | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5120983 | スペーサリソグラフィ | 2013年 1月16日 |
39 件中 31-39 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5204762 5204645 5197849 5165179 5148814 5149301 5140073 5134625 5120983
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月1日(月) - 東京 港区
特許庁：AI／DX時代に即した産業財産権制度について ～有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性～
9月1日(月) -
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月10日(水) - 東京 港区
9月10日(水) -
9月11日(木) - 東京 江東区
9月11日(木) - 広島 広島
ますます頼りにされる商標担当者になるための３つのポイント ～ 社内の商標相談にサクサクと答えられるエッセンスを教えます ～
9月12日(金) -
9月12日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒248-0006 神奈川県鎌倉市小町2-11-14 山中MRビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都武蔵野市吉祥寺本町１丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市西区靱本町1丁目10番4号 本町井出ビル2F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
