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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第16位 2256件
(2012年:第16位 2069件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第19位 1675件
(2012年:第17位 1887件)
(ランキング更新日:2025年2月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-149884 | パターン構造体の製造方法とナノインプリントリソグラフィ方法およびインプリント装置 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-147535 | 樹脂組成物、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-147294 | 紙カップ容器 | 2013年 8月 1日 | |
再表 2011-152314 | 太陽電池モジュール用封止材及びその製造方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-146877 | 熱転写シート及び熱転写シートを使用する画像形成方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-146876 | 熱転写シート及び熱転写シートを使用する画像形成方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-146923 | 認証用微細構造体およびその製造方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-146917 | セキュリティ媒体及びそれを用いた真贋判定方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-146916 | 認証用微細構造体およびその製造方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-147286 | 基板保持用枠体と基板保持用枠体の搬送方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-149549 | バックライト装置及びそれを用いた液晶表示装置 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-148275 | 空冷式チラーシステム | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-148276 | 冷却システムおよび冷媒冷却方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-148494 | 微細形状解析方法 | 2013年 8月 1日 | |
特開 2013-149875 | 位相欠陥の影響を低減するEUV露光用反射型マスクの製造方法 | 2013年 8月 1日 |
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2013-149884 2013-147535 2013-147294 2011-152314 2013-146877 2013-146876 2013-146923 2013-146917 2013-146916 2013-147286 2013-149549 2013-148275 2013-148276 2013-148494 2013-149875
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2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
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