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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4998864 | プラズマ処理室及びバッフル板アセンブリ | 2012年 8月15日 | |
特許 4984265 | イオンビーム注入角度の較正 | 2012年 7月25日 | |
特許 4974007 | 紫外放射光および/または真空紫外放射光を放射するための無電極ランプ | 2012年 7月11日 | |
特許 4962801 | 閉ループ線量制御のためにシリアル式注入装置の最終エネルギーベンド付近に配置された線量カップ | 2012年 6月27日 | |
特許 4953123 | 放射加熱源 | 2012年 6月13日 | |
特許 4947402 | 導波管および質量分析装置 | 2012年 6月 6日 | |
特許 4947401 | イオン注入装置 | 2012年 6月 6日 | |
特許 4935987 | イオン注入機と共に使用するための移送装置及びその方法 | 2012年 5月23日 | |
特許 4918949 | 熱処理炉内の漂遊放射光線の量を決定するための装置および方法 | 2012年 4月18日 | |
特許 4915621 | イオン注入機に用いるイオン源 | 2012年 4月11日 | |
特許 4915490 | イオン注入装置用の可変開口アセンブリ、ビームラインアセンブリ及びそのための制御装置 | 2012年 4月11日 | |
特許 4893881 | ウエハ処理システム | 2012年 3月 7日 | |
特許 4883316 | イオンビーム用静電レンズ | 2012年 2月22日 | |
特許 4877555 | イオンビーム中を通過してワークピースをスキャンするための往復駆動装置 | 2012年 2月15日 | |
特許 4873215 | プラズマ内で固体物質を検出するための材料検出システム及び半導体材料除去システム | 2012年 2月 8日 |
31 件中 16-30 件を表示
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4998864 4984265 4974007 4962801 4953123 4947402 4947401 4935987 4918949 4915621 4915490 4893881 4883316 4877555 4873215
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
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