大陽日酸株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第507位 72件
（
2011年：第509位 70件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第424位 85件
（2011年：第479位 67件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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大陽日酸株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5033597 | 低温液化ガス供給装置及び方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5032407 | 窒素製造方法及び装置 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5033348 | 充填筒及び充填剤排出装置 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5032040 | セレン化水素の製造方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5027173 | アルゴン製造方法およびその装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5026774 | 蒸留装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5030575 | ＦＲＰ製クライオスタットの製造方法及びＦＲＰ製クライオスタット | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5026974 | 酸素同位体の濃縮方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5026304 | アンモニア含有ガス中の二酸化炭素の分析方法 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5026142 | 凍結保存容器 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5021907 | 窒化物半導体製造装置の洗浄方法と洗浄装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5026218 | 混合機 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5019714 | 低誘電率膜のダメージ回復法 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5011148 | 半導体装置の製造方法、クリーニング方法及び基板処理装置 | 2012年 8月29日 | 共同出願 |
| 特許 5011013 | 二フッ化キセノンガス供給装置 | 2012年 8月29日 |
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5033597 5032407 5033348 5032040 5027173 5026774 5030575 5026974 5026304 5026142 5021907 5026218 5019714 5011148 5011013
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