- 2025年8月22日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12004位 | ルビテルム・テクノロジーズ・ゲーエムベーハー ルビテルム・テクノロジーズ・ゲーエムベーハー | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 学校法人女子美術大学 学校法人女子美術大学 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | エコシル・テクノロジーズ・エルエルシー エコシル・テクノロジーズ・エルエルシー | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | ジャクレ ジャクレ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | チャラビ、リファット チャラビ、リファット | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | ニューロン ビオファルマ、ソシエダッド、アノニマ ニューロン ビオファルマ、ソシエダッド、アノニマ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 一般社団法人 検査医学標準物質機構 一般社団法人 検査医学標準物質機構 | 1 | - | 1(9278位) | |
12004位 | 座間 猛 座間 猛 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | ザンバー,ティドハー ザンバー,ティドハー | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 天津市先石光学技術有限公司 天津市先石光学技術有限公司 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | セロニック アクチエンゲゼルシャフト セロニック アクチエンゲゼルシャフト | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社 テツゲン 株式会社 テツゲン | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 新井 勇 新井 勇 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | サブコール フェイス グループ オイ サブコール フェイス グループ オイ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | ノルト・ナーヴィク・アーエス ノルト・ナーヴィク・アーエス | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社 維研 株式会社 維研 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社川上製作所 株式会社川上製作所 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 角銅 秀光 角銅 秀光 | 1 | - | 1(9278位) | |
12004位 | 杉中 一雄 杉中 一雄 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 森井 基憲 森井 基憲 | 1 | - | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
4519位 | 株式会社アルプスエンジニアリング | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | デジタル エンボイ, インコーポレイテッド | 3 | - | 0 | 4(4080位) |
4519位 | トリンプ・インターナショナル・ジャパン株式会社 | 3 | - | 0 | 3(5141位) |
4519位 | 清宮 理 | 3 | - | 0 | 3(5141位) |
4519位 | クウォンタム・コーポレイション | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社海水化学研究所 | 3 | ![]() |
1 | 3(5141位) |
4519位 | 株式会社光学技研 | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
4519位 | スペクトラキュア アクティエボラーグ | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | 小野田化学工業株式会社 | 3 | ![]() |
2 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社データ・テック | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | トランスモード・システムズ・アーベー | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | アビザ ヨーロッパ リミティド | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | オーエヌエエールア(オフィス ナスィオナル デテュード エ ドゥ ルシェルシュ アエロスパスィアル) | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | フジライト工業株式会社 | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
4519位 | 株式会社サニクリーン | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | 株式会社 Trigence Semiconductor | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | ニュートラスウィート プロパティ ホールディングス,インコーポレイテッド | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
4519位 | セイキ住工株式会社 | 3 | - | 0 | 3(5141位) |
4519位 | 日本中央競馬会 | 3 | - | 0 | 2(7099位) |
4519位 | イー.イー.アール. エンバイロメンタル エナジー リソースィズ (イスラエル) リミテッド | 3 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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