- 2025年8月22日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12004位 | 佐々木 久 佐々木 久 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 桑原 有司 桑原 有司 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社ダステック 株式会社ダステック | 1 | - | 2(5986位) | |
12004位 | ロバート・リュウ・ツーラン、ジュニア ロバート・リュウ・ツーラン、ジュニア | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社日立技術情報サービス 株式会社日立技術情報サービス | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 有限会社モブロン設計事務所 有限会社モブロン設計事務所 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 小檜山 勉 小檜山 勉 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | カリガン インターナショナル カンパニー カリガン インターナショナル カンパニー | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 菱興産業株式会社 菱興産業株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 日本メサライト工業株式会社 日本メサライト工業株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 有限会社 ヒットデザイン 有限会社 ヒットデザイン | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | アベリー、エヌ・カレブ アベリー、エヌ・カレブ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 大鉄工業株式会社 大鉄工業株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | デュプロシステム株式会社 デュプロシステム株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | リジュイヤオジツアングフェンヨウシアンゴンシ リジュイヤオジツアングフェンヨウシアンゴンシ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | バイオヴェイル ラボラトリーズ インコーポレイテッド バイオヴェイル ラボラトリーズ インコーポレイテッド | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 采▲金▼科技股▲分▼有限公司 采▲金▼科技股▲分▼有限公司 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | ファセト・イベリカ・ソシエダッド・アノニマ ファセト・イベリカ・ソシエダッド・アノニマ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社 大和テクノシステムズ 株式会社 大和テクノシステムズ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 森 俊彦 森 俊彦 | 1 | - | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9278位 | マル−ティー−ロック テクノロジーズ リミテッド | 1 | ![]() |
3 | 0(33195位) |
9278位 | スカンビア インダストリアル デヴェロプメンツ アクチエンゲゼルシャフト | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | 山科精器株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 2(7099位) |
9278位 | カミンズ・エンジン・カンパニー・リミテッド | 1 | ![]() |
5 | 0(33195位) |
9278位 | フアン ドールネズ トランスミツシイ ベスローテン フェンノートシャップ | 1 | ![]() |
2 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社コスモ計器 | 1 | ![]() |
2 | 1(12004位) |
9278位 | 廣田 修 | 1 | ![]() |
2 | 1(12004位) |
9278位 | 株式会社アピステ | 1 | ![]() |
1 | 2(7099位) |
9278位 | 日菱インテリジェンス株式会社 | 1 | ![]() |
2 | 0(33195位) |
9278位 | オネーラ(オフィス ナショナル デチュ−ド エ ド ルシェルシュ アエロスパティアル) | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | コダック・ポリクロウム・グラフィックス・ゲーエムベーハー | 1 | ![]() |
2 | 1(12004位) |
9278位 | コンパック・コンピューター・コーポレーション | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | シンクプラス リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | 聯陽半導體股▲ふん▼有限公司 | 1 | ![]() |
1 | 1(12004位) |
9278位 | 株式会社オリコム | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | オオモリ アンド ヤグチ ユーエスエー エルエルシー | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社ビジュアルジャパン | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | ジーエヌビー カンパニー リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
9278位 | ザーコム・インコーポレーテッド | 1 | ![]() |
2 | 0(33195位) |
9278位 | パラメトリック テクノロジー コーポレーション | 1 | ![]() |
1 | 0(33195位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
8月25日(月) -
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8月26日(火) -
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8月28日(木) - 東京 港区
8月28日(木) - 東京 港区
8月28日(木) -
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8月29日(金) - 大阪 大阪市
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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9月5日(金) -
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