- 2025年8月20日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月20日 -
| 順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 12004位 | 宮内 正裕 宮内 正裕 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | WIT株式会社 WIT株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 湘南エンジニアリング株式会社 湘南エンジニアリング株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 日本コネクト工業株式会社 日本コネクト工業株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 黒田 知宏 黒田 知宏 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | アカデミッシュ メディッシュ セントルム ビェ デ ユニヴェルシテイト ファン アムステルダム アカデミッシュ メディッシュ セントルム ビェ デ ユニヴェルシテイト ファン アムステルダム | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | イングラン, エルエルシー イングラン, エルエルシー | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | チェイニー・デザイン・アンド・ディベロップメント・リミテッド チェイニー・デザイン・アンド・ディベロップメント・リミテッド | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | キム,ジョンミン キム,ジョンミン | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 成富 正樹 成富 正樹 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | ウィリアムズ,ロナルド,ウェイド ウィリアムズ,ロナルド,ウェイド | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | マラバジ,クリスティアーノ マラバジ,クリスティアーノ | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | ルーヴルドージャパン株式会社 ルーヴルドージャパン株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | ノヴァ・コントロールズ ノヴァ・コントロールズ | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 佐竹 陽介 佐竹 陽介 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 株式会社Mush−A 株式会社Mush−A | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 尾下 隆 尾下 隆 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | ローリーコンサルティング株式会社 ローリーコンサルティング株式会社 | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 株式会社エスディー 株式会社エスディー | 1 | - | 0(24706位) | |
| 12004位 | 石山 英樹 石山 英樹 | 1 | - | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月20日 -
| 順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 4519位 | バッテル メモリアル インスティチュート | 3 | 5419位
|
2 | 2(7099位) |
| 4519位 | 株式会社ケミカル山本 | 3 | - | 0 | 3(5141位) |
| 4519位 | モーディーン・マニュファクチャリング・カンパニー | 3 | 8338位
|
1 | 1(12004位) |
| 4519位 | クノール−ブレームス レール システムス (ユーケー) リミテッド | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
| 4519位 | 株式会社原子力安全システム研究所 | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
| 4519位 | 株式会社キクテック | 3 | 5419位
|
2 | 9(2279位) |
| 4519位 | 株式会社フロンテア | 3 | 4188位
|
3 | 3(5141位) |
| 4519位 | 新和産業株式会社 | 3 | 2941位
|
5 | 0(33195位) |
| 4519位 | バット ホールディング アーゲー | 3 | - | 0 | 6(3082位) |
| 4519位 | 株式会社ハタノ製作所 | 3 | 8338位
|
1 | 7(2749位) |
| 4519位 | 古河樹脂加工株式会社 | 3 | 3422位
|
4 | 3(5141位) |
| 4519位 | 株式会社 日本ハネック | 3 | - | 0 | 1(12004位) |
| 4519位 | アドバンスド マスク テクノロジー センター ゲーエムベーハー ウント ツェーオー カーゲー | 3 | - | 0 | 0(33195位) |
| 4519位 | 瑞▲いー▼半導體股▲ふん▼有限公司 | 3 | 5419位
|
2 | 1(12004位) |
| 4519位 | ヒョスン・コーポレーション | 3 | 5419位
|
2 | 0(33195位) |
| 4519位 | ウイリアム エー クック オーストラリア ピィティワイ リミテッド | 3 | 5419位
|
2 | 1(12004位) |
| 4519位 | アボット ダイアベティス ケア インコーポレイテッド | 3 | 5419位
|
2 | 5(3481位) |
| 4519位 | マイデータ オートメーション アクチボラグ | 3 | 1872位
|
10 | 0(33195位) |
| 4519位 | 森精機興産株式会社 | 3 | 3422位
|
4 | 0(33195位) |
| 4519位 | 日立公共システムエンジニアリング株式会社 | 3 | 4188位
|
3 | 3(5141位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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