- 2025年2月3日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月3日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12004位 | 鄭 賢雄 鄭 賢雄 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社あおき 株式会社あおき | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 畑中 キエ子 畑中 キエ子 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 有限会社ケンセ 有限会社ケンセ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社マルショウエンドウ 株式会社マルショウエンドウ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | サン シティー(シヤメン)レインウェアー カンパニー リミテッド サン シティー(シヤメン)レインウェアー カンパニー リミテッド | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | エルダー ジェイムズ シー エルダー ジェイムズ シー | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | ミラ ロドリゲス,エンカルナシオン ミラ ロドリゲス,エンカルナシオン | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社ハテナバコ 株式会社ハテナバコ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | ピーター ハンケル ピーター ハンケル | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 下里 均 下里 均 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社リフレッシュ 株式会社リフレッシュ | 1 | - | 1(9278位) | |
12004位 | 浅田 民子 浅田 民子 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社上原OTEC研究所 株式会社上原OTEC研究所 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 椎名 祥 椎名 祥 | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 有限会社ドリームベイン 有限会社ドリームベイン | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社 イートムー 株式会社 イートムー | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | 株式会社ラビータ 株式会社ラビータ | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | キューエルアイエフ カンパニー リミテッド キューエルアイエフ カンパニー リミテッド | 1 | - | 0(24706位) | |
12004位 | タンダス ユーエス,エルエルシー タンダス ユーエス,エルエルシー | 1 | - | 0(24706位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月3日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9278位 | 株式会社滋賀山下 | 1 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
9278位 | ジーエヌツール株式会社 | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
9278位 | 木建技研株式会社 | 1 | 8338位 | 1 | 1(12004位) |
9278位 | 福田 敏男 | 1 | 8338位 | 1 | 3(5141位) |
9278位 | 株式会社東北田村工機 | 1 | 5419位 | 2 | 0(33195位) |
9278位 | フリアテツク・アクテイエンゲゼルシヤフト | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
9278位 | ピーティーエム・パッケージング・ツールズ・マシネリー・ピーティーイー.・リミテッド | 1 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
9278位 | ペーパーウェア株式会社 | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
9278位 | ニューロング株式会社 | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
9278位 | 水菱プラスチック株式会社 | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
9278位 | シュタビルス ゲーエムベーハー | 1 | 3422位 | 4 | 2(7099位) |
9278位 | 株式会社キャットアイ | 1 | 2941位 | 5 | 2(7099位) |
9278位 | 株式会社エムテック | 1 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
9278位 | ズルツァ シェムテヒ アクチェンゲゼルシャフト | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社ナカハラ | 1 | 8338位 | 1 | 1(12004位) |
9278位 | ハイネケン テクニカル サービシーズ ビー ブイ | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
9278位 | 光伸光学工業株式会社 | 1 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
9278位 | 株式会社高純度化学研究所 | 1 | 5419位 | 2 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社ハイペップ研究所 | 1 | 5419位 | 2 | 1(12004位) |
9278位 | ヨーゼフ マイスナー ゲーエムベーハー ウント コー カーゲー | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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