- 2024年11月29日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年11月29日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 特許取得件数 |
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5141位 | モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク | 3 | 2670位 | 8 | 27(981位) |
5141位 | 株式会社 東北テクノアーチ 株式会社 東北テクノアーチ | 3 | 3298位 | 6 | 9(2225位) |
5141位 | 三和化工株式会社 三和化工株式会社 | 3 | 7810位 | 2 | 3(4519位) |
5141位 | 石原薬品株式会社 石原薬品株式会社 | 3 | 2962位 | 7 | 30(903位) |
5141位 | アーキヤマデ株式会社 アーキヤマデ株式会社 | 3 | 4528位 | 4 | 6(2899位) |
5141位 | 株式会社日本衛生センター 株式会社日本衛生センター | 3 | 4528位 | 4 | 7(2601位) |
5141位 | 株式会社鶴弥 株式会社鶴弥 | 3 | 3298位 | 6 | 5(3248位) |
5141位 | 佐藤工業株式会社 佐藤工業株式会社 | 3 | 2670位 | 8 | 6(2899位) |
5141位 | 株式会社ダイヤメット 株式会社ダイヤメット | 3 | 7810位 | 2 | 16(1455位) |
5141位 | デンカ生研株式会社 デンカ生研株式会社 | 3 | 2457位 | 9 | 12(1799位) |
5141位 | カワサキプラントシステムズ株式会社 カワサキプラントシステムズ株式会社 | 3 | 1392位 | 20 | 10(2071位) |
5141位 | 柳瀬 隆敏 柳瀬 隆敏 | 3 | 13109位 | 1 | 3(4519位) |
5141位 | サンアロー株式会社 サンアロー株式会社 | 3 | 3789位 | 5 | 4(3746位) |
5141位 | 株式会社レイトロン 株式会社レイトロン | 3 | 7810位 | 2 | 1(9278位) |
5141位 | アスリートFA株式会社 アスリートFA株式会社 | 3 | 2121位 | 11 | 14(1627位) |
5141位 | ヒューグルエレクトロニクス株式会社 ヒューグルエレクトロニクス株式会社 | 3 | 3789位 | 5 | 5(3248位) |
5141位 | 株式会社タカキタ 株式会社タカキタ | 3 | 4528位 | 4 | 7(2601位) |
5141位 | ニロ‐プラーン・アー・ゲー ニロ‐プラーン・アー・ゲー | 3 | 13109位 | 1 | 2(5986位) |
5141位 | GAC株式会社 GAC株式会社 | 3 | 2282位 | 10 | 2(5986位) |
5141位 | 株式会社西村製作所 株式会社西村製作所 | 3 | - | 0 | 3(4519位) |
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年11月29日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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