- 2024年12月23日 更新 -
2011年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2011年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月23日 -
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2011年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月23日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2011年 出願公開件数 |
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9278位 | イメージ・ガイディッド・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社上島電興社 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 山中 一司 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | フアン、アリス・ワイ. | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | ハック・カンパニー | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | ハルテック・リミテッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 阪上 ▲隆▼英 | 1 | 5419位 | 2 | 0(33195位) |
9278位 | カネショウ ソイル トリートメント ビーヴィビーエー | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社テクノローグ | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社武田エンジニアリング・コンサルタント | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 | 1 | 1155位 | 19 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社高田工業所 | 1 | 3422位 | 4 | 4(4080位) |
9278位 | プリズム インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | ディスカバリ セミコンダクターズ インク. | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 株式会社 沖マイクロデザイン | 1 | 5419位 | 2 | 0(33195位) |
9278位 | アルスロン株式会社 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | グラスヒュッター・ウーレンベトリープ・ゲーエムベーハー | 1 | 4188位 | 3 | 1(12004位) |
9278位 | ペルコ,インコーポレイテッド | 1 | 8338位 | 1 | 0(33195位) |
9278位 | 田村 泰彦 | 1 | - | 0 | 0(33195位) |
9278位 | 岡本 健稔 | 1 | - | 0 | 1(12004位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
12月24日(火) - 神奈川 川崎市
12月25日(水) -
12月25日(水) -
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