- 2025年2月3日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月3日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | ケネス スコット アレクサンダー ブッチャー ケネス スコット アレクサンダー ブッチャー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ガリウム エンタープライジズ プロプライエタリー リミテッド ガリウム エンタープライジズ プロプライエタリー リミテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ヘリッセン,サール ヘリッセン,サール | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 多田 俊明 多田 俊明 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | アベ7 イノバシヨン アベ7 イノバシヨン | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 横澤 正美 横澤 正美 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 工藤 和男 工藤 和男 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 林 俊▲チェン▼ 林 俊▲チェン▼ | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 吉田実業株式会社 吉田実業株式会社 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ヤイクス コーポレイション ヤイクス コーポレイション | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 株式会社アドプロダクションエム 株式会社アドプロダクションエム | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 辻 孝志 辻 孝志 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 石山 新太郎 石山 新太郎 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 原口 弘美 原口 弘美 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 三浦 政明 三浦 政明 | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | ネルレボ オイヴィンド ネルレボ オイヴィンド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | リープヘル−エレクトロニーク ゲーエムベーハー リープヘル−エレクトロニーク ゲーエムベーハー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | エムティ.エイチ コントロール バルブ シーオー., エルティーディー エムティ.エイチ コントロール バルブ シーオー., エルティーディー | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | チャージポイント テクノロジー リミテッド チャージポイント テクノロジー リミテッド | 1 | - | 0(25637位) | |
11791位 | 威力盟電子股▲分▼有限公司 威力盟電子股▲分▼有限公司 | 1 | - | 0(25637位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月3日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9669位 | シユタイガーバルト・アルツナイミツテルベルク・ゲーエムベーハー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 橋本 悟 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | キム ジャユン | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ノバビジョン, インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 平出 英行 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | シーリー カンパニー リミテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | デュール エコクリーン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 1 | 9278位 | 1 | 0(32063位) |
9669位 | 角林商事株式会社 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 大寺 一生 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | アポロ精工株式会社 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | メイキング メモリーズ ホールセール、インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | リブコンエンジニアリング株式会社 | 1 | 3248位 | 5 | 6(3044位) |
9669位 | 株式会社 日新工業製作所 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | トーホー加工株式会社 | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | 株式会社 エポックケミカル | 1 | - | 0 | 2(7092位) |
9669位 | 中野 義隆 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 浅海 壽夫 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ストラシステム株式会社 | 1 | 5986位 | 2 | 1(11791位) |
9669位 | アキュライド インターナショナル リミテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | フロスト・リンクス・インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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