- 2025年2月18日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月18日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
2735位 | 東洋スチレン株式会社 東洋スチレン株式会社 | 7 | ![]() |
3 | 3(4646位) |
2735位 | 第一実業ビスウィル株式会社 第一実業ビスウィル株式会社 | 7 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
2735位 | DOWAサーモテック株式会社 DOWAサーモテック株式会社 | 7 | ![]() |
6 | 11(1978位) |
2735位 | 調和工業株式会社 調和工業株式会社 | 7 | ![]() |
2 | 4(3844位) |
2735位 | 大竹 正志 大竹 正志 | 7 | ![]() |
7 | 0(25637位) |
2735位 | チ・エレ・エッフェ・ソシエタ・コンソルティーレ・ペル・アチオニ チ・エレ・エッフェ・ソシエタ・コンソルティーレ・ペル・アチオニ | 7 | ![]() |
3 | 13(1784位) |
2735位 | 協立電機株式会社 協立電機株式会社 | 7 | ![]() |
6 | 2(6156位) |
2735位 | 株式会社エネゲート 株式会社エネゲート | 7 | ![]() |
19 | 7(2665位) |
2735位 | 株式会社マコメ研究所 株式会社マコメ研究所 | 7 | ![]() |
2 | 5(3300位) |
2735位 | 株式会社メイクソフトウェア 株式会社メイクソフトウェア | 7 | ![]() |
7 | 9(2270位) |
2735位 | 一品光学工業股▲ふん▼有限公司 一品光学工業股▲ふん▼有限公司 | 7 | ![]() |
5 | 1(9669位) |
2735位 | 共同カイテック株式会社 共同カイテック株式会社 | 7 | ![]() |
6 | 10(2117位) |
2735位 | 株式会社アクシス 株式会社アクシス | 7 | ![]() |
6 | 1(9669位) |
2735位 | アトムメディカル株式会社 アトムメディカル株式会社 | 7 | ![]() |
7 | 2(6156位) |
2735位 | サーモディクス ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド サーモディクス ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド | 7 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
2735位 | 鄭 美貞 鄭 美貞 | 7 | ![]() |
6 | 0(25637位) |
2735位 | 片柳 良和 片柳 良和 | 7 | ![]() |
1 | 3(4646位) |
2735位 | フルタ電機株式会社 フルタ電機株式会社 | 7 | ![]() |
12 | 27(1040位) |
2735位 | 生田 尚之 生田 尚之 | 7 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
2735位 | 日本ボールドウィン株式会社 日本ボールドウィン株式会社 | 7 | ![]() |
5 | 4(3844位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月18日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
2955位 | 一丸ファルコス株式会社 | 6 | ![]() |
7 | 7(2735位) |
2955位 | 和興フィルタテクノロジー株式会社 | 6 | ![]() |
3 | 2(7092位) |
2955位 | 株式会社オメガ | 6 | ![]() |
3 | 13(1780位) |
2955位 | 株式会社エアレックス | 6 | ![]() |
7 | 5(3467位) |
2955位 | 中興化成工業株式会社 | 6 | ![]() |
6 | 3(5164位) |
2955位 | ユーロコプテール | 6 | ![]() |
3 | 1(11791位) |
2955位 | 伊東電機株式会社 | 6 | ![]() |
4 | 7(2735位) |
2955位 | マルヤス機械株式会社 | 6 | - | 0 | 1(11791位) |
2955位 | ジェン−プロウブ インコーポレイテッド | 6 | ![]() |
4 | 7(2735位) |
2955位 | 不二精機株式会社 | 6 | ![]() |
2 | 4(4129位) |
2955位 | 日本化成株式会社 | 6 | ![]() |
2 | 6(3044位) |
2955位 | ジェネンコー・インターナショナル・インク | 6 | ![]() |
16 | 2(7092位) |
2955位 | タカムラ総業株式会社 | 6 | ![]() |
1 | 2(7092位) |
2955位 | 株式会社藤井合金製作所 | 6 | ![]() |
11 | 2(7092位) |
2955位 | 株式会社アミテック | 6 | ![]() |
14 | 5(3467位) |
2955位 | ジャパンパイル株式会社 | 6 | ![]() |
12 | 6(3044位) |
2955位 | 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 | 6 | ![]() |
11 | 17(1466位) |
2955位 | 双信電機株式会社 | 6 | ![]() |
10 | 3(5164位) |
2955位 | フィグラ株式会社 | 6 | ![]() |
6 | 7(2735位) |
2955位 | 清華大学 | 6 | ![]() |
2 | 3(5164位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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