- 2025年8月8日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
2735位 | 東洋スチレン株式会社 東洋スチレン株式会社 | 7 | ![]() |
3 | 3(4646位) |
2735位 | 第一実業ビスウィル株式会社 第一実業ビスウィル株式会社 | 7 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
2735位 | DOWAサーモテック株式会社 DOWAサーモテック株式会社 | 7 | ![]() |
6 | 11(1978位) |
2735位 | 調和工業株式会社 調和工業株式会社 | 7 | ![]() |
2 | 4(3844位) |
2735位 | 大竹 正志 大竹 正志 | 7 | ![]() |
7 | 0(25637位) |
2735位 | チ・エレ・エッフェ・ソシエタ・コンソルティーレ・ペル・アチオニ チ・エレ・エッフェ・ソシエタ・コンソルティーレ・ペル・アチオニ | 7 | ![]() |
3 | 13(1784位) |
2735位 | 協立電機株式会社 協立電機株式会社 | 7 | ![]() |
6 | 2(6156位) |
2735位 | 株式会社エネゲート 株式会社エネゲート | 7 | ![]() |
19 | 7(2665位) |
2735位 | 株式会社マコメ研究所 株式会社マコメ研究所 | 7 | ![]() |
2 | 5(3300位) |
2735位 | 株式会社メイクソフトウェア 株式会社メイクソフトウェア | 7 | ![]() |
7 | 9(2270位) |
2735位 | 一品光学工業股▲ふん▼有限公司 一品光学工業股▲ふん▼有限公司 | 7 | ![]() |
5 | 1(9669位) |
2735位 | 共同カイテック株式会社 共同カイテック株式会社 | 7 | ![]() |
6 | 10(2117位) |
2735位 | 株式会社アクシス 株式会社アクシス | 7 | ![]() |
6 | 1(9669位) |
2735位 | アトムメディカル株式会社 アトムメディカル株式会社 | 7 | ![]() |
7 | 2(6156位) |
2735位 | サーモディクス ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド サーモディクス ファーマシューティカルズ, インコーポレイテッド | 7 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
2735位 | 鄭 美貞 鄭 美貞 | 7 | ![]() |
6 | 0(25637位) |
2735位 | 片柳 良和 片柳 良和 | 7 | ![]() |
1 | 3(4646位) |
2735位 | フルタ電機株式会社 フルタ電機株式会社 | 7 | ![]() |
12 | 27(1040位) |
2735位 | 生田 尚之 生田 尚之 | 7 | ![]() |
4 | 0(25637位) |
2735位 | 日本ボールドウィン株式会社 日本ボールドウィン株式会社 | 7 | ![]() |
5 | 4(3844位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9669位 | 株式会社市川ソフトラボラトリー | 1 | ![]() |
1 | 1(11791位) |
9669位 | エムツーエニー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクター ハフトゥング | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ヘプタゴン・オサケ・ユキチュア | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | バージェス・ノートン・マニュファクチャリング・カンパニー・インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | 株式会社ヴァンクール | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | ユン シン ファーマシューティカル インダストリー カンパニー リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | サイバーソニックス・インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | パラダイム・スパイン・エルエルシー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ザ・ロゴシン・インスティテュート | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | ストーン アンド ウェブスター プロセス テクノロジー インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | JFE協和容器株式会社 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社エスティック | 1 | ![]() |
2 | 0(32063位) |
9669位 | ヘクセル コンポジット、リミテッド | 1 | ![]() |
1 | 3(5164位) |
9669位 | 立凱電能科技股▲ふん▼有限公司 | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | サソル テクノロジー (プロプリエタリ) リミテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | コミサリア ア レネルジィ アトミーク | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ヴィ・マン・フィス | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 太田油脂株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 0(32063位) |
9669位 | ハウツァー テクノ コーティング ユアラップ ベーファウ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ナヴォテック・ゲーエムベーハー | 1 | ![]() |
2 | 0(32063位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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【大阪会場】 設計図面に隠れている発明を見出す発明発掘(図面発掘)~「知財ポートフォリオ・マネジメント」を高めるために必須のテクニックを ケーススタディを通じて解説 ~
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