- 2024年12月27日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月27日 -
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月27日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9669位 | 株式会社ブイ・アール・テクノセンター | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社グランアース | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | 株式会社フォーカルワークス | 1 | - | 0 | 2(7092位) |
9669位 | エマソン・プロセス・マネジメント・エルエルエルピー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | プラズマシール・エルエルシー | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 大都工業株式会社 | 1 | - | 0 | 2(7092位) |
9669位 | 馬場 茂 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | オクシデンタル ケミカル コーポレーション | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 後藤 国男 | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | ユルゲン・ヘーゼマン | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | コア・ダイナミクス・リミテッド | 1 | 9278位 | 1 | 0(32063位) |
9669位 | コビデイエン・アーゲー | 1 | 9278位 | 1 | 0(32063位) |
9669位 | 平山 貞宏 | 1 | 9278位 | 1 | 2(7092位) |
9669位 | サン ケミカル ベスローテン フェンノートシャップ | 1 | 9278位 | 1 | 2(7092位) |
9669位 | フイブ・スタン | 1 | 9278位 | 1 | 2(7092位) |
9669位 | ガリストロフ ソフトウェア エルエルシー | 1 | 9278位 | 1 | 1(11791位) |
9669位 | 速水 哲哉 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ソメスサドル株式会社 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 小寺 清 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 林 義雄 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
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