- 2024年12月27日 更新 -
2012年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2012年 出願公開分 - データ更新日:2024年12月27日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
11791位 | 泉 周平 泉 周平 | 1 | 7099位 | 2 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社久力製作所 株式会社久力製作所 | 1 | 7099位 | 2 | 1(9669位) |
11791位 | マル−ティー−ロック テクノロジーズ リミテッド マル−ティー−ロック テクノロジーズ リミテッド | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 山科精器株式会社 山科精器株式会社 | 1 | 7099位 | 2 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社ウェイニー 株式会社ウェイニー | 1 | 12004位 | 1 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社東京技術研究所 株式会社東京技術研究所 | 1 | 7099位 | 2 | 2(6156位) |
11791位 | 株式会社コスモ計器 株式会社コスモ計器 | 1 | 12004位 | 1 | 3(4646位) |
11791位 | 富士工器株式会社 富士工器株式会社 | 1 | - | 0 | 1(9669位) |
11791位 | 奇菱科技股▲ふん▼有限公司 奇菱科技股▲ふん▼有限公司 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | オネーラ(オフィス ナショナル デチュ−ド エ ド ルシェルシュ アエロスパティアル) オネーラ(オフィス ナショナル デチュ−ド エ ド ルシェルシュ アエロスパティアル) | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 株式会社モリサワ 株式会社モリサワ | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 日晴金属株式会社 日晴金属株式会社 | 1 | - | 0 | 2(6156位) |
11791位 | ユーキューイー,エルエルシー ユーキューイー,エルエルシー | 1 | 5141位 | 3 | 4(3844位) |
11791位 | 株式会社トップパーツ 株式会社トップパーツ | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | マイクロナス ゲーエムベーハー マイクロナス ゲーエムベーハー | 1 | 12004位 | 1 | 0(25637位) |
11791位 | ナチュラルジャパン株式会社 ナチュラルジャパン株式会社 | 1 | - | 0 | 1(9669位) |
11791位 | 有限会社オブジィー 有限会社オブジィー | 1 | 5141位 | 3 | 0(25637位) |
11791位 | 中村 稔 中村 稔 | 1 | 5141位 | 3 | 4(3844位) |
11791位 | 屋比久 朗 屋比久 朗 | 1 | - | 0 | 0(25637位) |
11791位 | 吉原 廣 吉原 廣 | 1 | - | 0 | 1(9669位) |
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2012年 特許登録分 - データ更新日:2024年12月27日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2012年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9669位 | 黄 金 富 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 中国砂輪企業股▲分▼有限公司 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | インディアン・スペース・リサーチ・オーガニゼイション | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ローディア シミ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 有限会社板倉工業 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | エイテイオー・ベー・ブイ | 1 | - | 0 | 1(11791位) |
9669位 | シンコー リミテッド | 1 | 9278位 | 1 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社 佐藤製作所 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 武田 英司 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | インフィニト パワー ソリューションズ, インコーポレイテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | クリニジェネティクス | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ゲンハンター コーポレーション | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | オハイオ ユニヴァーシティ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | リグノール リミテッド | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 上原 富三 | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | サビ テクノロジー、インク. | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社ニシケミ | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | ツルン ユリオピスト | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
9669位 | 株式会社ユビキタス・ビジネステクノロジー | 1 | 9278位 | 1 | 0(32063位) |
9669位 | トライクェント セミコンダクター,インク. | 1 | - | 0 | 0(32063位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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