- 2025年2月6日 更新 -
2013年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2013年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月6日 -
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2013年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月6日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2013年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
6233位 | ニューレンズ・リミテッド | 2 | ![]() |
3 | 1(12936位) |
6233位 | エイテックス テクノロジーズ インコーポレイテッド | 2 | - | 0 | 1(12936位) |
6233位 | ホリングワース・アンド・ボーズ・カンパニー | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | クリーンケミカル株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 0(34895位) |
6233位 | ディッケル マホ ゼーバッハ ゲーエムベーハー | 2 | - | 0 | 1(12936位) |
6233位 | アクテス株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 0(34895位) |
6233位 | エスエムヴィ エス.アール.エル. | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | 辰巳 邦明 | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | 株式会社神津製作所 | 2 | - | 0 | 2(7796位) |
6233位 | 株式会社ナカキン | 2 | - | 0 | 2(7796位) |
6233位 | ユーロケラ ソシエテ オン ノーム コレクティフ | 2 | - | 0 | 5(3781位) |
6233位 | 中国科学院大▲連▼化学物理研究所 | 2 | - | 0 | 3(5661位) |
6233位 | テール アルメ アンテルナシオナル | 2 | - | 0 | 4(4525位) |
6233位 | 株式会社マック | 2 | - | 0 | 1(12936位) |
6233位 | 日機装エイコー株式会社 | 2 | - | 0 | 0(34895位) |
6233位 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク | 2 | ![]() |
2 | 0(34895位) |
6233位 | ケメット エレクトロニクス コーポレーション | 2 | - | 0 | 6(3287位) |
6233位 | 甲府カシオ株式会社 | 2 | ![]() |
1 | 0(34895位) |
6233位 | ライフケア技研株式会社 | 2 | - | 0 | 4(4525位) |
6233位 | 株式会社間瀬 | 2 | ![]() |
1 | 0(34895位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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