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- 2025年2月7日 更新 -
2016年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2016年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2016年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12189位 | ルメンタム スィツァーランド アーゲー | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | エイピー系▲統▼股▲フン▼有限公司 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 和光通信株式会社 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 株式会社ズーム | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 山内 真一 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 株式会社ニューメディア | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | イノワイアレス カンパニー、リミテッド | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 株式会社鈴鹿コミュニティー | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 株式会社インターナショナル電子 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 伊藤 正人 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | 范 揚鋒 | 1 | - | 0(24808位) | |
12189位 | ▲陽▼光▲電▼源股▲分▼有限公司 | 1 | - | 0(24808位) | |
12190位 | 中日合成化學股▲分▼有限公司 | 0 | - | 1(24809位) |
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2016年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2016年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9250位 | エコラブ ユーエスエイ インク | 1 | - | 0 | 21(1216位) |
9250位 | フィリグラン トレーガーシステム ゲーエムベーハー ウント ツェーオー. カーゲー | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
9250位 | メカニック・アナリティック・インコーポレーテッド | 1 | - | 0 | 1(12189位) |
9250位 | エモリー ユニバーシティ | 1 | - | 0 | 2(7297位) |
9250位 | ナノトロニクス イメージング リミテッド ライアビリティ カンパニー | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
9250位 | イノバシオネス・ミクロエレクトロニカス・ソシエダッド・リミターダ・(アナフォーカス) | 1 | - | 0 | 2(7297位) |
9250位 | ネクソ | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
9250位 | シーメンス リサーチ センター リミテッド ライアビリティ カンパニー | 1 | - | 0 | 2(7297位) |
9250位 | 小久保 文之 | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
9250位 | 株式会社無有 | 1 | - | 0 | 14(1667位) |
9250位 | サンタ株式会社 | 1 | ![]() |
1 | 1(12189位) |
9250位 | 有限会社クローバーテック | 1 | - | 0 | 2(7297位) |
9250位 | 株式会社ミノグループ | 1 | - | 0 | 3(5242位) |
9250位 | 佳勝科技股▲ふん▼有限公司 | 1 | - | 0 | 1(12189位) |
9250位 | エーモン工業株式会社 | 1 | - | 0 | 1(12189位) |
9250位 | リーパック カンパニー リミテッド | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
9250位 | 株式会社小林製作所 | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
9250位 | 中日合成化學股▲分▼有限公司 | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
9250位 | 株式会社今井機業場 | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
9250位 | 株式会社レオパレス21 | 1 | - | 0 | 0(33513位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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