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エイピー系▲統▼股▲フン▼有限公司
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第12189位 1件
（
2015年： 0件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第24808位 0件
（2015年： 0件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エイピー系▲統▼股▲フン▼有限公司の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-225626 | 紫外線光源を用いたレーザー結晶化設備に起因するムラを定量化するシステム及び紫外線光源を用いたレーザー結晶化設備に起因するムラを定量化する方法 | 2016年12月28日 |
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