- 2025年2月7日 更新 -
2016年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2016年 出願公開分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2016年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
7297位 | エステック株式会社 | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | 上田 恭嗣 | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | 日本システム開発株式会社 | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | 株式会社KeepTree | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | ホソダクリエイティブ株式会社 | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | エフペー ピグメンツ オイ | 2 | - | 1(9250位) | |
7297位 | ノリタケ伊勢電子株式会社 | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | ヴェーぺーテー ゲーエムベーハー | 2 | - | 1(9250位) | |
7297位 | 株式会社デジジャパン | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | 新光産業株式会社 | 2 | - | 1(9250位) | |
7297位 | モトコマ株式会社 | 2 | - | 2(5777位) | |
7297位 | スパークリングライツ株式会社 | 2 | - | 1(9250位) | |
7297位 | ビオクリネ エービー | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | エンパティカ エスアールエル | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | リンダル フランス サス | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | サイラブス, ファーマシューティカルズ | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | カプリオン プロテオミクス インコーポレーテッド | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | レリオン プラズマ ゲーエムベーハー | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | ジェイアンドシー テクノロジー カンパニー リミテッド | 2 | - | 0(24808位) | |
7297位 | ヌビア テクノロジー カンパニー リミテッド | 2 | - | 0(24808位) |
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2016年 特許登録分 - データ更新日:2025年2月7日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2016年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
9250位 | マリオ・バルダッチーニ・メッカニカ・ディ・プレチシオーネ | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | DOC Japan株式会社 | 1 | - | 2(7297位) | |
9250位 | エネブレイン カンパニー リミテッド | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | ポリマーギヤ株式会社 | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | 株式会社松田製作所 | 1 | - | 2(7297位) | |
9250位 | アプライド ファーマシューティカル サイエンス インコーポレイテッド | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | ラボラトリオス レティ,エセ.エレ. | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | アムデルマ ファーマシューティカルズ、エルエルシー | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | 株式会社フォトシンス | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | 株式会社神菱 | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | シーアイマテックス株式会社 | 1 | - | 0(33513位) | |
9250位 | MKR株式会社 | 1 | - | 0(33513位) | |
9250位 | ダミアン ジェラード ラヴランド | 1 | - | 0(33513位) | |
9250位 | 有限会社三都工業 | 1 | - | 0(33513位) | |
9250位 | 寺嶋 友加 | 1 | - | 0(33513位) | |
9250位 | アルテラ・コ―ポレ―シヨン | 1 | - | 0(33513位) | |
9250位 | プロセク ソシエテ アノニム | 1 | - | 1(12189位) | |
9250位 | 日本Gvex株式会社 | 1 | - | 0(33513位) | |
9250位 | 日本自動機工株式会社 | 1 | - | 0(33513位) | |
9250位 | 73100−セテンタ エ トレス ミル エ セム、エレデア | 1 | - | 0(33513位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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