- 2025年7月22日 更新 -
2017年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2017年 出願公開分 - データ更新日:2025年7月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2017年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
1131位 | 株式会社セイコーアイ・インフォテック | 26 | ![]() |
22 | 23(925位) |
1131位 | 三甲株式会社 | 26 | ![]() |
44 | 38(636位) |
1131位 | 品川リフラクトリーズ株式会社 | 26 | ![]() |
22 | 17(1182位) |
1131位 | 戸田建設株式会社 | 26 | ![]() |
20 | 23(925位) |
1131位 | パナホーム株式会社 | 26 | ![]() |
28 | 26(842位) |
1131位 | 株式会社日本マイクロニクス | 26 | ![]() |
16 | 23(925位) |
1131位 | エフ ホフマン−ラ ロッシュ アクチェン ゲゼルシャフト | 26 | ![]() |
12 | 26(842位) |
1131位 | 協和発酵キリン株式会社 | 26 | ![]() |
14 | 18(1119位) |
1131位 | シナノケンシ株式会社 | 26 | ![]() |
49 | 19(1076位) |
1131位 | 芦森工業株式会社 | 26 | ![]() |
34 | 32(724位) |
1131位 | 日本バイリーン株式会社 | 26 | ![]() |
32 | 33(704位) |
1131位 | 公立大学法人横浜市立大学 | 26 | ![]() |
10 | 12(1518位) |
1131位 | 株式会社メイクソフトウェア | 26 | ![]() |
30 | 18(1119位) |
1131位 | NECライティング株式会社 | 26 | ![]() |
11 | 19(1076位) |
1131位 | 株式会社エクシング | 26 | ![]() |
32 | 27(826位) |
1131位 | 株式会社三社電機製作所 | 26 | ![]() |
14 | 11(1630位) |
1131位 | シーアイ化成株式会社 | 26 | ![]() |
21 | 9(1911位) |
1131位 | 株式会社FLOSFIA | 26 | ![]() |
34 | 5(2791位) |
1131位 | 帝人ファーマ株式会社 | 26 | ![]() |
9 | 12(1518位) |
1131位 | 株式会社UBIC | 26 | ![]() |
5 | 7(2245位) |
![]() |
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2017年 特許登録分 - データ更新日:2025年7月22日 -
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
7月23日(水) -
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7月24日(木) -
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
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7月25日(金) -
7月25日(金) -
7月28日(月) -
7月28日(月) -
7月29日(火) -
7月30日(水) -
7月30日(水) -
7月28日(月) -
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