- 2025年8月22日 更新 -
2020年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2020年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2020年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
12781位 | 株式会社フレックラム | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 相澤 宏明 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 金 起範 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 株式会社エンターテイメントボウル | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 梨木工業有限会社 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 中川 和人 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 平野 泰巳 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | タカキ製作所株式会社 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 金子 大作 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 新日本バネ工業株式会社 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 本間 秀晴 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | フォルシア・シエジュ・ドトモビル | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 原田 知子 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 株式会社エースパッケージ | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | ホン,ジン ラク | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 巫紅寛 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 広西四維材料科技股▲フン▼有限公司 | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 株式会社フォレスト・ラボ | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | ユミコア アーゲー ウント コンパニー カーゲー | 1 | - | 0(24204位) | |
12781位 | 有限会社ケミカル電子 | 1 | - | 0(24204位) |
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2020年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月22日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2020年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
8780位 | 株式会社ナイアー | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 株式会社アイディーエス | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | ナンジン・ナラテック・ファーマシューティカルズ・カンパニー・リミテッド | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 洪 榮徳 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 丹澤 純 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 山縣 紀夫 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 株式会社SENTASS | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | カクテルメイク株式会社 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 烟台大学 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 株式会社ウィンド・パワー・エンジニアリング | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 株式会社銀座クルーズ | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 野本 宏 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | エヴァーブリリアント・ファーマ・ピーティーワイ・リミテッド | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | ニューロボ ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 松原 亮介 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 株式会社大姫神創 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 大西紙器工業株式会社 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 山内 剛太 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 有限会社はるか薬局 | 1 | - | 0(33722位) | |
8780位 | 窪田 望 | 1 | - | 0(33722位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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