- 2025年8月8日 更新 -
2021年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2021年 出願公開分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2021年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
3677位 | 萩原 康史 | 5 | ![]() |
1 | 1(9350位) |
3677位 | 韓国原子力研究院 | 5 | ![]() |
1 | 3(4240位) |
3677位 | 广州克力労保用品有限公司 | 5 | ![]() |
20 | 0(25492位) |
3677位 | 南京▲微▼▲創▼医学科技股▲フン▼有限公司 | 5 | ![]() |
1 | 2(5804位) |
3677位 | エンサイト エルエルシー | 5 | ![]() |
1 | 0(25492位) |
3677位 | ショット シュヴァイツ アー・ゲー | 5 | ![]() |
9 | 0(25492位) |
3677位 | マイクロポート(シャンハイ)メドボット カンパニー,リミティッド | 5 | ![]() |
3 | 5(2874位) |
3677位 | トカイ カーボン コリア カンパニー,リミティド | 5 | ![]() |
4 | 2(5804位) |
3677位 | O−FILM.Japan株式会社 | 5 | ![]() |
4 | 0(25492位) |
3677位 | サイクレリオン・セラピューティクス,インコーポレーテッド | 5 | ![]() |
2 | 1(9350位) |
3677位 | 株式会社リビエラ | 5 | ![]() |
3 | 1(9350位) |
3677位 | シーメンス ガメサ リニューアブル エナジー エー/エス | 5 | ![]() |
2 | 4(3400位) |
3677位 | レヴォリューション・メディスンズ,インコーポレイテッド | 5 | ![]() |
5 | 1(9350位) |
3677位 | 川上 成年 | 5 | ![]() |
2 | 2(5804位) |
3677位 | イーテーエルエーセー・ベー・フェー | 5 | ![]() |
4 | 1(9350位) |
3677位 | ペランク | 5 | - | 0 | 0(25492位) |
3677位 | 株式会社エヌエスアイテクス | 5 | ![]() |
5 | 0(25492位) |
3677位 | イングラム マイクロ インコーポレーテッド | 5 | ![]() |
6 | 4(3400位) |
3677位 | ティーシーアール2 セラピューティクス インク. | 5 | ![]() |
1 | 0(25492位) |
3677位 | ジンヨングローバル カンパニーリミテッド | 5 | ![]() |
4 | 1(9350位) |
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2021年 特許登録分 - データ更新日:2025年8月8日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2021年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3400位 | 日本ペイントホールディングス株式会社 | 4 | ![]() |
4 | 8(2561位) |
3400位 | ナノサミット株式会社 | 4 | - | 0 | 4(4398位) |
3400位 | 株式会社日建設計 | 4 | ![]() |
7 | 2(7646位) |
3400位 | 美和ロック株式会社 | 4 | ![]() |
5 | 1(12881位) |
3400位 | NKE株式会社 | 4 | ![]() |
1 | 4(4398位) |
3400位 | 国立大学法人北見工業大学 | 4 | ![]() |
5 | 9(2350位) |
3400位 | 株式会社IHI検査計測 | 4 | ![]() |
4 | 6(3208位) |
3400位 | リョーエイ株式会社 | 4 | ![]() |
2 | 3(5574位) |
3400位 | スガ試験機株式会社 | 4 | ![]() |
5 | 1(12881位) |
3400位 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 4 | ![]() |
6 | 0(34147位) |
3400位 | 株式会社朝日ラバー | 4 | ![]() |
4 | 5(3677位) |
3400位 | メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド | 4 | ![]() |
7 | 1(12881位) |
3400位 | 田中電子工業株式会社 | 4 | ![]() |
2 | 1(12881位) |
3400位 | ヘンケルジャパン株式会社 | 4 | ![]() |
12 | 8(2561位) |
3400位 | ケーシーアイ ライセンシング インコーポレイテッド | 4 | ![]() |
20 | 14(1675位) |
3400位 | ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 4 | ![]() |
5 | 0(34147位) |
3400位 | ナンヤン テクノロジカル ユニヴァーシティー | 4 | ![]() |
3 | 5(3677位) |
3400位 | ライプニッツ−インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | 4 | ![]() |
1 | 3(5574位) |
3400位 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | 4 | ![]() |
8 | 0(34147位) |
3400位 | アンスティテュ・パストゥール | 4 | ![]() |
2 | 4(4398位) |
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。
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