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2022年 特許ランキング

- 2024年11月15日 更新 -

2022年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。

特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2022年 出願公開分   - データ更新日:2024年11月15日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2022年 特許取得件数
8370位 イントラクト、ファーマ、リミテッド 2 - 0(27906位)
8370位 美瑞新材料股▲フン▼有限公司 2 - 0(27906位)
8370位 スリープ スマート ソリューションズ ゲーエムベーハー 2 - 0(27906位)
8370位 シャンハイ ポラリス バイオロジー カンパニー, リミテッド 2 - 0(27906位)
8370位 スパイダーワート インク. 2 - 0(27906位)
8370位 デヴェラ セラピューティクス インコーポレイテッド 2 - 0(27906位)
8370位 スティングセラ インコーポレイテッド 2 - 0(27906位)
8370位 ▲億▼信科技▲発▼展有限公司 2 - 0(27906位)
8370位 アビタイド リミテッド ライアビリティ カンパニー 2 - 0(27906位)
8370位 PDRファーマ株式会社 2 - 3(4630位)
8370位 チームグリット 2 - 0(27906位)
8370位 ビジュウォクス 2 - 0(27906位)
8370位 国網安徽省電力有限公司電力科学研究院 2 - 0(27906位)
8370位 ブリンコ カンパニー,リミテッド 2 - 0(27906位)
8370位 マス・イノベイション・(プライベイト)・リミテッド 2 - 0(27906位)
8370位 ファーヴァリス ゲーエムベーハー 2 - 0(27906位)
8370位 スマイル・ファスト・リミテッド 2 - 0(27906位)
8370位 パートナーサクセス株式会社 2 - 1(10281位)
8370位 上海敬巽信息科技有限公司 2 - 0(27906位)
8370位 アティンス インコーポレーテッド 2 - 0(27906位)

特許出願件数ランキング

特許取得件数ランキング

2022年 特許登録分   - データ更新日:2024年11月15日 -

順位出願人件数前年順位前年件数2022年 出願公開件数
6243位 関西オートメイション株式会社 2 - 0 1(14391位)
6243位 株式会社クリーンプラネット 2 - 0 4(4725位)
6243位 ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア 2 特許件数下降 9350位 1 6(3387位)
6243位 株式会社テンフィートライト 2 特許件数上昇 5804位 2 1(14391位)
6243位 アースレックス インコーポレイテッド 2 特許件数上昇 2213位 7 4(4725位)
6243位 ティーピー・セラピューティクス・インコーポレイテッド 2 特許件数上昇 4240位 3 2(8370位)
6243位 サイペム エスピーアー 2 特許件数上昇 3400位 4 3(6022位)
6243位 クリアウォーター ホールディングス,リミテッド 2 - 0 1(14391位)
6243位 株式会社コラントッテ 2 - 0 1(14391位)
6243位 学校法人 福山大学 2 - 0 1(14391位)
6243位 公立大学法人三重県立看護大学 2 - 0 2(8370位)
6243位 株式会社エビス 2 - 0 2(8370位)
6243位 ヨンチャン ケミカル カンパニー リミテッド 2 特許件数上昇 2213位 7 5(3931位)
6243位 シオノギヘルスケア株式会社 2 特許件数下降 9350位 1 0(37581位)
6243位 東北マイクロテック株式会社 2 特許件数下降 9350位 1 1(14391位)
6243位 パーソンズ エクストリーム ゴルフ,エルエルシー 2 特許件数上昇 4240位 3 2(8370位)
6243位 セラティチット ルクセンブルグ エス.アー.エール.エル 2 - 0 0(37581位)
6243位 技研株式会社 2 特許件数下降 9350位 1 1(14391位)
6243位 合同会社S−WORKS 2 - 0 0(37581位)
6243位 株式会社バイオイズム 2 - 0 0(37581位)
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※ 正確なランキングを算出するため、共同出願については筆頭出願人の出願として集計しています。

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2014年 特許出願件数2014年 特許取得件数
2013年 特許出願件数2013年 特許取得件数
2012年 特許出願件数2012年 特許取得件数
2011年 特許出願件数2011年 特許取得件数
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技術契約における基本と勘所

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