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ヨンチャン ケミカル カンパニー リミテッド
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第3931位 5件
（
2021年：第4398位 4件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第6243位 2件
（
2021年：第2213位 7件）
（ランキング更新日：2025年1月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ヨンチャン ケミカル カンパニー リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7191234 | 半導体製造プロセスにおけるシリコン又はシリコン化合物のパターンを形成するための新規方法 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7004671 | ネガ型フォトレジストを用いたパターニング工程におけるＬＷＲ改善方法及び組成物 | 2022年 1月21日 |
2 件中 1-2 件を表示
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7191234 7004671
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