- 2024年9月20日 更新 -
2024年に発行された公報(公開特許公報,特許公報)に基づくランキングです。
2024年 出願公開分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2024年 特許取得件数 |
---|---|---|---|---|---|
1041位 | グラフィック パッケージング インターナショナル インコーポレイテッド | 16 | 1835位 | 12 | 4(2890位) |
1041位 | ビ−エイイ− システムズ パブリック リミテッド カンパニ− | 16 | 1185位 | 21 | 6(2116位) |
1041位 | 光陽工業股▲分▼有限公司 | 16 | - | 0 | 1(7989位) |
1041位 | メルス・ベー・フェー | 16 | 1402位 | 17 | 9(1559位) |
1041位 | 浙江吉利控股集団有限公司 | 16 | 1134位 | 22 | 10(1442位) |
1041位 | ヒュンダイ・モービス・カンパニー・リミテッド | 16 | 839位 | 32 | 2(4834位) |
1041位 | ヤコブ ハッテラント ロジスティクス アーエス | 16 | 660位 | 44 | 2(4834位) |
1041位 | オキュラス ブイアール,エルエルシー | 16 | 201位 | 190 | 12(1245位) |
1041位 | エックス デベロップメント エルエルシー | 16 | 1071位 | 24 | 9(1559位) |
1041位 | ジーケーエヌ オートモーティブ リミテッド | 16 | 2149位 | 10 | 16(990位) |
1041位 | 広東美的暖通設備有限公司 | 16 | - | 0 | 0(22103位) |
1041位 | ルネサス エレクトロニクス アメリカ インコーポレイテッド | 16 | 2569位 | 8 | 3(3550位) |
1041位 | 公立大学法人大阪 | 16 | 725位 | 39 | 34(543位) |
1041位 | 武漢華星光電半導体顕示技術有限公司 | 16 | 1835位 | 12 | 13(1169位) |
1041位 | 株式会社日立インダストリアルプロダクツ | 16 | 725位 | 39 | 26(668位) |
1041位 | 浙大城市学院 | 16 | 2149位 | 10 | 5(2441位) |
1041位 | 北京図森智途科技有限公司 | 16 | 921位 | 29 | 1(7989位) |
1041位 | MAアルミニウム株式会社 | 16 | 1134位 | 22 | 18(897位) |
1099位 | オメガ・エス アー | 15 | 1272位 | 19 | 10(1442位) |
1099位 | エスセーアー・ハイジーン・プロダクツ・アーベー | 15 | 2569位 | 8 | 6(2116位) |
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2024年 特許登録分 - データ更新日:2024年9月20日 -
順位 | 出願人 | 件数 | 前年順位 | 前年件数 | 2024年 出願公開件数 |
---|---|---|---|---|---|
3550位 | JCRファーマ株式会社 | 3 | 3124位 | 5 | 8(1881位) |
3550位 | ブラッコ・イメージング・ソシエタ・ペル・アチオニ | 3 | - | 0 | 4(3255位) |
3550位 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. | 3 | 4609位 | 3 | 1(10067位) |
3550位 | 株式会社住化分析センター | 3 | 2734位 | 6 | 1(10067位) |
3550位 | 三鷹光器株式会社 | 3 | - | 0 | 5(2720位) |
3550位 | ザ・ユニバーシティ・オブ・ブリティッシュ・コロンビア | 3 | 2423位 | 7 | 5(2720位) |
3550位 | サンアプロ株式会社 | 3 | 2734位 | 6 | 5(2720位) |
3550位 | インペリアル・イノベ−ションズ・リミテッド | 3 | 4609位 | 3 | 3(4165位) |
3550位 | レ ラボラトワール セルヴィエ | 3 | 10364位 | 1 | 7(2075位) |
3550位 | 日本酢ビ・ポバール株式会社 | 3 | 6302位 | 2 | 0(26890位) |
3550位 | 小野谷機工株式会社 | 3 | 3701位 | 4 | 2(5814位) |
3550位 | 株式会社コガネイ | 3 | 2423位 | 7 | 0(26890位) |
3550位 | 中央研究院 | 3 | 6302位 | 2 | 0(26890位) |
3550位 | 株式会社ティーイーエス | 3 | 3701位 | 4 | 0(26890位) |
3550位 | エリーパワー株式会社 | 3 | 4609位 | 3 | 7(2075位) |
3550位 | 株式会社精工技研 | 3 | 1999位 | 9 | 4(3255位) |
3550位 | 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 | 3 | 2186位 | 8 | 2(5814位) |
3550位 | 山崎産業株式会社 | 3 | 2186位 | 8 | 7(2075位) |
3550位 | コリア エレクトロニクス テクノロジ インスティチュート | 3 | 4609位 | 3 | 4(3255位) |
3550位 | コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー | 3 | - | 0 | 2(5814位) |
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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