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エア・ウォーター株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第1238位 20件
（
2019年：第1468位 17件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1223位 15件
（2019年：第1357位 13件）
（ランキング更新日：2026年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エア・ウォーター株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-196943 | ガス浸炭方法および装置 | 2020年12月10日 | |
| 再表 2019-151216 | 液化流体供給システム及び液化流体噴射装置 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-174560 | 培養方法、培養容器、ガス封入チャンバおよび無菌アイソレータ | 2020年10月29日 | |
| 特開 2020-155373 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理物 | 2020年 9月24日 | |
| 特開 2020-142180 | 高酸素ガスの供給装置および方法 | 2020年 9月10日 | |
| 特開 2020-137445 | カボチャの種ワタ除去方法および装置 | 2020年 9月 3日 | |
| 特開 2020-138245 | カボチャ切断方法および装置、それに用いるカボチャ切断用刃物 | 2020年 9月 3日 | |
| 特開 2020-132259 | 炭酸水ディスペンサ | 2020年 8月31日 | |
| 特開 2020-132260 | 炭酸水ディスペンサ | 2020年 8月31日 | |
| 特開 2020-134870 | ペリクル中間体、ペルクル、ペリクル中間体の製造方法、およびペリクルの製造方法 | 2020年 8月31日 | |
| 特開 2020-123466 | 容器内の加熱構造および温度スイング吸着装置 | 2020年 8月13日 | |
| 特開 2020-113693 | 化合物半導体基板 | 2020年 7月27日 | |
| 特開 2020-99434 | ミスト入浴器 | 2020年 7月 2日 | |
| 特開 2020-100539 | 化合物半導体基板 | 2020年 7月 2日 | |
| 特開 2020-72216 | 化合物半導体装置、化合物半導体基板、および化合物半導体装置の製造方法 | 2020年 5月 7日 |
21 件中 1-15 件を表示
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2020-196943 2019-151216 2020-174560 2020-155373 2020-142180 2020-137445 2020-138245 2020-132259 2020-132260 2020-134870 2020-123466 2020-113693 2020-99434 2020-100539 2020-72216
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