ホーム > 特許ランキング > ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社 > 2012年 > 出願公開一覧
ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社
※ ログインすれば出願人(ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2026位 11件
（
2011年： 0件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1877位 12件
（2011年： 0件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-252083 | 微細パターンマスクおよびその製造方法、ならびにそれを用いた微細パターンの形成方法 | 2012年12月20日 | |
| 特開 2012-242600 | 感光性シロキサン樹脂組成物 | 2012年12月10日 | |
| 特開 2012-220836 | 上面反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2012年11月12日 | |
| 特開 2012-219219 | シロキサン樹脂含有塗布組成物 | 2012年11月12日 | |
| 再表 2010-137424 | 薬液供給システムおよびそれに用いる薬液用容器 | 2012年11月12日 | |
| 特開 2012-198456 | リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-181334 | 低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜の形成方法、及び該形成方法により形成された低屈折率膜並びに反射防止膜 | 2012年 9月20日 | |
| 特開 2012-174717 | 二酸化ケイ素膜の製造方法 | 2012年 9月10日 | |
| 特開 2012-174756 | 絶縁膜の形成方法 | 2012年 9月10日 | |
| 特開 2012-137778 | ケイ素含有微細パターン形成用組成物 | 2012年 7月19日 | |
| 特開 2012-116878 | スルホン化フェニル基を含むシルセスキアザンポリマーおよびそれを用いて製造したシリカ質膜 | 2012年 6月21日 |
11 件中 1-11 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2012-252083 2012-242600 2012-220836 2012-219219 2010-137424 2012-198456 2012-181334 2012-174717 2012-174756 2012-137778 2012-116878
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
2月17日(月) - 大阪 大阪市
（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒248-0006 神奈川県鎌倉市小町2-11-14 山中MRビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒104-0061 東京都中央区銀座1-8-2 銀座プルミエビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
京都市東山区泉涌寺門前町２６番地 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
