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ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社
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ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5097960 | 屈折率を最適化して性能を改善した光吸収性の反射防止層 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5076092 | ネガ型フォトレジスト組成物 | 2012年11月21日 | |
| 特許 5069494 | 微細化パターン形成用水溶性樹脂組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5058733 | ケイ素含有微細パターン形成用組成物を用いた微細パターン形成方法 | 2012年10月24日 | |
| 特許 5051395 | 厚いフィルムに像を形成するためのフォトレジスト組成物 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5035903 | フォトレジストパターンを被覆するための組成物 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5035930 | 溶剤混合物を含むフォトレジスト用反射防止膜コーティング組成物 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5019338 | 光結像性ポジ型底面反射防止膜 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5003958 | ポリエステルの製造方法 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5008079 | 光結像性ポジ型底面反射防止膜 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 5000260 | 微細化されたパターンの形成方法およびそれに用いるレジスト基板処理液 | 2012年 8月15日 | |
| 特許 4982659 | シリカ質膜の製造法およびそれにより製造されたシリカ質膜付き基板 | 2012年 7月25日 |
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5097960 5076092 5069494 5058733 5051395 5035903 5035930 5019338 5003958 5008079 5000260 4982659
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