ホーム > 特許ランキング > ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社 > 2013年 > 出願公開一覧
ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社
※ ログインすれば出願人(ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第3781位 5件
（
2012年：第2026位 11件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1233位 21件
（
2012年：第1877位 12件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2012-26400 | ポジ型感光性シロキサン組成物 | 2013年10月28日 | |
| 特開 2013-83818 | 微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2013年 5月 9日 | |
| 特開 2013-83812 | レジストパターンの表面処理方法およびそれを用いたレジストパターン形成方法、ならびにそれらに用いる被覆層形成用組成物 | 2013年 5月 9日 | |
| 特開 2013-40993 | 酸化タングステン膜形成用組成物およびそれを用いた酸化タングステン膜の製造法 | 2013年 2月28日 | |
| 特開 2013-20211 | 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細化されたパターン形成方法 | 2013年 1月31日 |
5 件中 1-5 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2012-26400 2013-83818 2013-83812 2013-40993 2013-20211
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
京都市伏見区深草大亀谷万帖敷町４４６－２ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都新宿区新宿５－１０－１ 第２スカイビル６階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒453-0012 愛知県名古屋市中村区井深町１番１号 新名古屋センタービル・本陣街２階 ２４３－１号室 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
