ホーム > 特許ランキング > ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社 > 2013年 > 特許一覧
ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社
※ ログインすれば出願人(ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第3781位 5件
（
2012年：第2026位 11件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1233位 21件
（
2012年：第1877位 12件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5375096 | 反射防止膜 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5344869 | アルカリ可溶性シルセスキオキサンの製造方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5332046 | 架橋可能なポリマーに基づく下層膜用組成物 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5327217 | 縮合芳香族環を含む反射防止膜組成物 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5329999 | パターン形成方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5323698 | 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5320603 | フォトレジスト組成物に使用するためのポリマー | 2013年10月23日 | |
| 特許 5320624 | フォトレジスト用の反射防止膜組成物 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5320631 | 厚膜形成用のフォトレジスト組成物 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5306755 | 基板処理液およびそれを用いたレジスト基板処理方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5306669 | シリカ質膜の形成方法およびそれにより形成されたシリカ質膜 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5299788 | 反射防止膜組成物 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5298337 | ポリシラザン廃棄物の処理 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5290204 | 微細パターンマスクおよびその製造方法、ならびにそれを用いた微細パターンの形成方法 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5266560 | 被膜用ストリッパ | 2013年 8月21日 |
21 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5375096 5344869 5332046 5327217 5329999 5323698 5320603 5320624 5320631 5306755 5306669 5299788 5298337 5290204 5266560
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
8月27日(水) - 東京 港区
8月27日(水) -
8月27日(水) -
8月28日(木) - 東京 港区
8月28日(木) -
8月28日(木) -
8月29日(金) - 大阪 大阪市
8月29日(金) -
8月29日(金) -
8月29日(金) - 東京 港区
8月29日(金) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月1日(月) - 東京 港区
特許庁：AI／DX時代に即した産業財産権制度について ～有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性～
9月1日(月) -
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒453-0012 愛知県名古屋市中村区井深町１番１号 新名古屋センタービル・本陣街２階 ２４３－１号室 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒140-0002 東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー２１Ｆ・２２Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区北浜３丁目５－１９ 淀屋橋ホワイトビル２階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
