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ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第3781位 5件
（
2012年：第2026位 11件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1233位 21件
（
2012年：第1877位 12件）
（ランキング更新日：2024年10月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＡＺエレクトロニックマテリアルズＩＰ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5375096 | 反射防止膜 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5344869 | アルカリ可溶性シルセスキオキサンの製造方法 | 2013年11月20日 | |
| 特許 5332046 | 架橋可能なポリマーに基づく下層膜用組成物 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5327217 | 縮合芳香族環を含む反射防止膜組成物 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5329999 | パターン形成方法 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5323698 | 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5320603 | フォトレジスト組成物に使用するためのポリマー | 2013年10月23日 | |
| 特許 5320624 | フォトレジスト用の反射防止膜組成物 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5320631 | 厚膜形成用のフォトレジスト組成物 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5306755 | 基板処理液およびそれを用いたレジスト基板処理方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5306669 | シリカ質膜の形成方法およびそれにより形成されたシリカ質膜 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5299788 | 反射防止膜組成物 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5298337 | ポリシラザン廃棄物の処理 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5290204 | 微細パターンマスクおよびその製造方法、ならびにそれを用いた微細パターンの形成方法 | 2013年 9月18日 | |
| 特許 5266560 | 被膜用ストリッパ | 2013年 8月21日 |
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5375096 5344869 5332046 5327217 5329999 5323698 5320603 5320624 5320631 5306755 5306669 5299788 5298337 5290204 5266560
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日常実務の疑問点に答える著作権 （周辺領域の商標・不正競争防止法を含む）に関するQ&A ～日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Ｑ＆Ａ形式で平易に解説～
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