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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第4220位 4件 (2017年:第1793位 14件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第2192位 7件 (2017年:第1630位 11件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6419194 | シリコン基板上にデバイス品質の窒化ガリウム層を形成する方法 | 2018年11月 7日 | |
特許 6407271 | 格子転位を除去するための急速熱処理によるヘテロエピタキシャル層の形成方法および材料処理装置 | 2018年10月17日 | |
特許 6392282 | 2D金属カルコゲニド薄膜のレーザ利用原子層堆積 | 2018年 9月19日 | |
特許 6353891 | CGS干渉分光法を用いた処理制御のためにプロセス誘導ウエハ形状を特徴化するシステムおよび方法 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6345737 | 鋸歯状の空間フィルタを用いた高性能線形成光学システム及び方法 | 2018年 6月20日 | |
特許 6306661 | 自己組織化単分子層を用いたALD抑制層の形成方法 | 2018年 4月 4日 | |
特許 6259023 | 電極系デバイス用のALD処理のためのマスキング方法 | 2018年 1月10日 |
7 件中 1-7 件を表示
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6419194 6407271 6392282 6353891 6345737 6306661 6259023
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