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ウルトラテック インク
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1851位 12件
（
2014年： 0件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1417位 13件
（2014年： 0件）
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ウルトラテック インクの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5833196 | 気体環境中のフォトレジストをレーザ処理する方法 | 2015年12月16日 | |
| 特許 5819343 | アニーリングの非均一性を低減したレーザーアニーリング走査方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5806257 | マイクロリソグラフィーのための等倍率大型反射屈折レンズ | 2015年11月10日 | |
| 特許 5806261 | 高集光効率を有するＬＥＤ型フォトリソグラフィー照明器 | 2015年11月10日 | |
| 特許 5800506 | ハンダ相互接続パッドの製造方法 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5800794 | 温度性能を向上させた、２本のビームによるレーザーアニール | 2015年10月28日 | |
| 特許 5774754 | 高強度光線測定システム、及び方法 | 2015年 9月 9日 | |
| 特許 5766930 | 窒化ガリウム発光ダイオードの形成方法 | 2015年 8月19日 | |
| 特許 5739477 | 滞留時間が非常に短いレーザアニールシステムおよび方法 | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5734819 | 位相シフトマスクを使用したフォトリソグラフィによるＬＥＤの作製 | 2015年 6月17日 | |
| 特許 5709265 | シリコン貫通ビアを製作する方法 | 2015年 4月30日 | |
| 特許 5679569 | ライン結像システム及びレーザアニール方法 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5661680 | アシスト位相領域を有する位相シフトマスク | 2015年 1月28日 |
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5833196 5819343 5806257 5806261 5800506 5800794 5774754 5766930 5739477 5734819 5709265 5679569 5661680
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