ホーム > 特許ランキング > ウルトラテック インク > 2015年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ウルトラテック インク)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1851位 12件 (2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1417位 13件 (2014年: 0件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5833196 | 気体環境中のフォトレジストをレーザ処理する方法 | 2015年12月16日 | |
特許 5819343 | アニーリングの非均一性を低減したレーザーアニーリング走査方法 | 2015年11月24日 | |
特許 5806257 | マイクロリソグラフィーのための等倍率大型反射屈折レンズ | 2015年11月10日 | |
特許 5806261 | 高集光効率を有するLED型フォトリソグラフィー照明器 | 2015年11月10日 | |
特許 5800506 | ハンダ相互接続パッドの製造方法 | 2015年10月28日 | |
特許 5800794 | 温度性能を向上させた、2本のビームによるレーザーアニール | 2015年10月28日 | |
特許 5774754 | 高強度光線測定システム、及び方法 | 2015年 9月 9日 | |
特許 5766930 | 窒化ガリウム発光ダイオードの形成方法 | 2015年 8月19日 | |
特許 5739477 | 滞留時間が非常に短いレーザアニールシステムおよび方法 | 2015年 6月24日 | |
特許 5734819 | 位相シフトマスクを使用したフォトリソグラフィによるLEDの作製 | 2015年 6月17日 | |
特許 5709265 | シリコン貫通ビアを製作する方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5679569 | ライン結像システム及びレーザアニール方法 | 2015年 3月 4日 | |
特許 5661680 | アシスト位相領域を有する位相シフトマスク | 2015年 1月28日 |
13 件中 1-13 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5833196 5819343 5806257 5806261 5800506 5800794 5774754 5766930 5739477 5734819 5709265 5679569 5661680
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ウルトラテック インクの知財の動向チェックに便利です。
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
大阪府大阪市西区靱本町1丁目10番4号 本町井出ビル2F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒104-0045 東京都中央区築地1-12-22 コンワビル4F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒166-0003 東京都杉並区高円寺南2-50-2 YSビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング