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ウルトラテック インク
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1793位 14件
（
2016年：第1978位 11件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1630位 11件
（
2016年：第1540位 13件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ウルトラテック インクの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6231535 | 欠陥アニーリング及びドーパント活性化のための高性能線形成光学システム及び方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6195671 | 改善されたプラズマ強化ＡＬＤシステム | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6193305 | 高性能線形成光学システム及び方法 | 2017年 9月 6日 | |
| 特許 6185512 | 周囲酸素ガスの局在化制御を用いた半導体ウエハのレーザアニーリング方法 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6170967 | ハンダ相互接続パッド構造及びこれの製造方法 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6159754 | 紫外線損傷に対する感受性を減少させたウイン−ダイソン投影レンズ | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6154034 | 発光ダイオードを利用した材料の製造システムおよび製造方法 | 2017年 6月28日 | |
| 特許 6116656 | 超短期滞留時間でのレーザアニーリングシステム及び方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6092305 | レーザアニーリングにおいて光線の不安定性を減少させるためのシステム及び方法 | 2017年 3月 8日 | |
| 特許 6078092 | 滞留時間が非常に短いレーザアニールシステムおよび方法 | 2017年 2月 8日 | |
| 特許 6073943 | 鉛フリーＣ４相互接続の信頼性を改善するための構造体 | 2017年 2月 1日 |
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6231535 6195671 6193305 6185512 6170967 6159754 6154034 6116656 6092305 6078092 6073943
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