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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第394位 64件
(
2025年:第299位 109件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第310位 73件
(
2025年:第338位 81件)
(ランキング更新日:2026年10月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7913131 | フィルタモジュール | 2026年 8月31日 | |
| 特許 7906861 | フィルタカートリッジ、およびフィルタハウジングを後付けする方法 | 2026年 8月18日 | |
| 特許 7906892 | 前駆体送達装置のためのトレイ組立体および関連する方法 | 2026年 8月18日 | |
| 特許 7904298 | レチクルポッドのシーリング | 2026年 8月12日 | |
| 特許 7902934 | 除去可能なコーティングを有する物品及び関連する方法 | 2026年 8月10日 | |
| 特許 7901175 | オーバーモールド用特殊工具、および可撓性基板構成要素の製造方法 | 2026年 8月 5日 | |
| 特許 7900476 | ポリアミドコートされたフィルター濾過膜、フィルターおよび方法 | 2026年 8月 4日 | |
| 特許 7897897 | 基板容器のためのパージフロー分配システム、およびパージフロー分配システムを実施するための方法 | 2026年 7月30日 | |
| 特許 7891072 | 半導体基板搬送容器内にパージ流体調整要素を設置する方法 | 2026年 7月15日 | |
| 特許 7890396 | 容器内へのパージを調節するための方法および装置 | 2026年 7月14日 | |
| 特許 7888599 | 化学機械平坦化(CMP)のための懸濁液とそれを用いる方法 | 2026年 7月13日 | |
| 特許 7882988 | 基板を洗浄するためのデバイスおよび関連する方法 | 2026年 6月30日 | |
| 特許 7882942 | フルオロアルキルスズ前駆体の合成 | 2026年 6月30日 | |
| 特許 7881698 | 傾斜面を含むラッチを有するレチクルポッド | 2026年 6月29日 | |
| 特許 7881732 | ガス処理システムおよび方法 | 2026年 6月29日 |
73 件中 16-30 件を表示
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7913131 7906861 7906892 7904298 7902934 7901175 7900476 7897897 7891072 7890396 7888599 7882988 7882942 7881698 7881732
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