サンアプロ株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第2484位 8件
（
2010年：第4528位 4件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第24706位 0件
（
2010年：第5419位 2件）
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サンアプロ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-201803 | オニウムボレート塩、光酸発生剤及び感光性樹脂組成物 | 2011年10月13日 | |
| 特開 2011-195499 | スルホニウム塩、光酸発生剤及び感光性樹脂組成物 | 2011年10月 6日 | |
| 特開 2011-162471 | スルホニウム塩，光酸発生剤，硬化性組成物及びポジ型フォトレジスト組成物 | 2011年 8月25日 | |
| 再表 2009-122664 | 光塩基発生剤 | 2011年 7月28日 | |
| 特開 2011-116869 | 光塩基発生剤 | 2011年 6月16日 | |
| 特開 2011-102269 | スルホニウム塩，光酸発生剤，硬化性組成物及びポジ型フォトレジスト組成物 | 2011年 5月26日 | |
| 特開 2011-63796 | 光酸発生剤，光硬化性組成物及びポジ型フォトレジスト組成物 | 2011年 3月31日 | |
| 特開 2011-39411 | 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの作製方法 | 2011年 2月24日 |
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2011-201803 2011-195499 2011-162471 2009-122664 2011-116869 2011-102269 2011-63796 2011-39411
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