サンアプロ株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第2283位 9件
（
2013年：第2461位 9件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第2733位 7件
（2013年：第6233位 2件）
（ランキング更新日：2025年2月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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サンアプロ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-234348 | スルホニウム塩および光酸発生剤 | 2014年12月15日 | 共同出願 |
| 特開 2014-214129 | 硬化性組成物及びそれを用いた硬化体 | 2014年11月17日 | |
| 特開 2014-205624 | オニウムボレート塩系酸発生剤 | 2014年10月30日 | |
| 特開 2014-201555 | スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 | 2014年10月27日 | |
| 特開 2014-125490 | ポリウレタン樹脂製造用の触媒組成物及び硬質ポリウレタンフォーム又は硬質ポリイソシアヌレートフォームの製造法 | 2014年 7月 7日 | |
| 特開 2014-97930 | 熱塩基発生剤 | 2014年 5月29日 | |
| 特開 2014-94974 | 光塩基発生剤 | 2014年 5月22日 | |
| 特開 2014-91827 | ポリウレタン樹脂製造用の触媒組成物及び硬質ポリウレタンフォーム又は硬質ポリイソシアヌレートフォームの製造法 | 2014年 5月19日 | |
| 特開 2014-88463 | 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 | 2014年 5月15日 |
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2014-234348 2014-214129 2014-205624 2014-201555 2014-125490 2014-97930 2014-94974 2014-91827 2014-88463
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＜エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け＞ 基礎から学ぶ／自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月14日(金) - 東京 千代田区
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