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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第4725位 4件 (2021年:第34147位 0件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第6243位 2件 (2021年:第25492位 0件)
(ランキング更新日:2024年11月11日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2022-553546 | パターン化X線放出ターゲット | 2022年12月23日 | |
特開 2022-106761 | 二次イオン質量分析を用いた半導体測定および表面分析のためのシステムならびに手法 | 2022年 7月20日 | |
特表 2022-525861 | 堆積プロセスを監視する方法およびシステム | 2022年 5月20日 | |
特開 2022-24157 | 二次イオン質量分析計 | 2022年 2月 8日 |
4 件中 1-4 件を表示
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2022-553546 2022-106761 2022-525861 2022-24157
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