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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7595573 | 真空処理装置、および、少なくとも1つの基板の真空プラズマ処理または基板の製造のための方法 | 2024年12月 6日 | |
特許 7471236 | マグネトロンスパッタリングのための方法および装置 | 2024年 4月19日 | |
特許 7419343 | 低粒子プラズマエッチング用の方法および装置 | 2024年 1月22日 |
3 件中 1-3 件を表示
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7595573 7471236 7419343
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