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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第59位 611件
(2020年:第62位 598件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第324位 83件
(2020年:第253位 111件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2021-40069 | 半導体ウェハ、半導体ウェハの製造方法、および半導体装置の製造方法 | 2021年 3月11日 | |
特開 2021-40092 | 半導体装置およびその製造方法 | 2021年 3月11日 | |
特開 2021-40094 | 基板貼合装置 | 2021年 3月11日 | |
特開 2021-40108 | 半導体装置およびその製造方法 | 2021年 3月11日 | |
特開 2021-36564 | 半導体ウェハおよび半導体チップ | 2021年 3月 4日 | |
特開 2021-36572 | 半導体製造装置、および半導体装置の製造方法 | 2021年 3月 4日 | |
特開 2021-31747 | 排気配管装置 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-32905 | フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法、パターン形成方法、及びフォトマスク | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-33530 | メモリシステム | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-33687 | メモリシステム | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-33845 | メモリシステムおよび制御方法 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-33847 | メモリシステムおよび制御方法 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-33848 | メモリシステムおよび制御方法 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-33849 | メモリシステムおよび制御方法 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-33945 | メモリシステムおよび制御方法 | 2021年 3月 1日 |
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2021-40069 2021-40092 2021-40094 2021-40108 2021-36564 2021-36572 2021-31747 2021-32905 2021-33530 2021-33687 2021-33845 2021-33847 2021-33848 2021-33849 2021-33945
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3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
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