ホーム > 特許ランキング > ルネサスエレクトロニクス株式会社 > 2012年 > 特許一覧
ルネサスエレクトロニクス株式会社
※ ログインすれば出願人(ルネサスエレクトロニクス株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第29位 1347件
（
2011年：第22位 1823件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第28位 1067件
（2011年：第26位 1109件）
（ランキング更新日：2025年12月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
ルネサスエレクトロニクス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5106513 | 薄膜磁性体記憶装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107959 | 基板 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106747 | パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び露光用マスクセット | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106942 | メモリリード制御回路 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107541 | 絶縁膜形成方法および半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5110783 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107627 | 半導体ウェーハ、および、それを用いた半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5111191 | データ処理装置、画像符号化復号装置、データ処理システム及び画像処理装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107839 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107128 | 半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5111057 | 制御装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108690 | ＤＭＡ装置及びＤＭＡ転送方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107532 | シミュレーション方法およびシミュレーションシステム、ならびにマスクパターンの修正方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108408 | 半導体装置及びその製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107080 | 半導体装置 | 2012年12月26日 |
1067 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5106513 5107959 5106747 5106942 5107541 5110783 5107627 5111191 5107839 5107128 5111057 5108690 5107532 5108408 5107080
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ルネサスエレクトロニクス株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
12月17日(水) -
12月17日(水) -
12月17日(水) -
12月17日(水) -
12月17日(水) -
12月18日(木) -
12月18日(木) -
12月18日(木) -
12月19日(金) - 山口 山口市
12月19日(金) - 東京 千代田区
12月19日(金) - 大阪 大阪市
【大阪会場】 前田知財塾 ～スキルアップ編～ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く！ 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月19日(金) -
12月17日(水) -
12月22日(月) -
12月22日(月) -
12月23日(火) -
12月23日(火) -
12月23日(火) -
12月23日(火) -
12月23日(火) -
12月24日(水) -
12月24日(水) -
12月24日(水) -
12月25日(木) -
12月25日(木) -
12月22日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
福岡市博多区博多駅前1-23-2-5F-B 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
京都市東山区泉涌寺門前町２６番地 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田３０５０ 厚木アクストメインタワー３階Ｂ－１ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
