特許ランキング - 出願人詳細情報 - English version here

ホーム > 特許ランキング > ルネサスエレクトロニクス株式会社 > 2012年 > 特許一覧

ルネサスエレクトロニクス株式会社

※ ログインすれば出願人(ルネサスエレクトロニクス株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

  2012年 出願公開件数ランキング    第29位 1347件 下降2011年:第22位 1823件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第28位 1067件 下降2011年:第26位 1109件)

(ランキング更新日:2020年11月26日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年  2013年  2014年  2015年  2016年  2017年  2018年  2019年  2020年 

公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5107080 半導体装置 2012年12月26日
特許 5107959 基板 2012年12月26日
特許 5110783 半導体装置 2012年12月26日
特許 5106942 メモリリード制御回路 2012年12月26日
特許 5111057 制御装置 2012年12月26日
特許 5111191 データ処理装置、画像符号化復号装置、データ処理システム及び画像処理装置 2012年12月26日
特許 5107627 半導体ウェーハ、および、それを用いた半導体装置の製造方法 2012年12月26日
特許 5108690 DMA装置及びDMA転送方法 2012年12月26日
特許 5107541 絶縁膜形成方法および半導体装置の製造方法 2012年12月26日
特許 5106513 薄膜磁性体記憶装置 2012年12月26日
特許 5108548 受信装置 2012年12月26日
特許 5107839 半導体装置 2012年12月26日
特許 5107532 シミュレーション方法およびシミュレーションシステム、ならびにマスクパターンの修正方法 2012年12月26日
特許 5108408 半導体装置及びその製造方法 2012年12月26日
特許 5106747 パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び露光用マスクセット 2012年12月26日

1067 件中 1-15 件を表示

1 2 3 4 5 6 7次へ>

をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5107080 5107959 5110783 5106942 5111057 5111191 5107627 5108690 5107541 5106513 5108548 5107839 5107532 5108408 5106747

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ルネサスエレクトロニクス株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

  • このサイトをYahoo!ブックマークに登録
  • はてなブックマークに追加

特許ランキング

2020年 特許出願件数2020年 特許取得件数
2019年 特許出願件数2019年 特許取得件数
2018年 特許出願件数2018年 特許取得件数
2017年 特許出願件数2017年 特許取得件数
2016年 特許出願件数2016年 特許取得件数
2015年 特許出願件数2015年 特許取得件数
2014年 特許出願件数2014年 特許取得件数
2013年 特許出願件数2013年 特許取得件数
2011年 特許出願件数2011年 特許取得件数
出願人を検索

今週の知財セミナー (11月30日~12月6日)

来週の知財セミナー (12月7日~12月13日)

特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介

特許業務法人 快友国際特許事務所

〒451-6009 愛知県名古屋市西区牛島町6番1号 名古屋ルーセントタワー9階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング 

山口晃志郎特許事務所

岐阜県各務原市つつじが丘1丁目111番地 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 コンサルティング 

福井特許事務所

〒166-0003 東京都杉並区高円寺南2-50-2 YSビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング