ホーム > 特許ランキング > ルネサスエレクトロニクス株式会社 > 2012年 > 特許一覧
ルネサスエレクトロニクス株式会社
※ ログインすれば出願人(ルネサスエレクトロニクス株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第29位 1347件
（
2011年：第22位 1823件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第28位 1067件
（2011年：第26位 1109件）
（ランキング更新日：2020年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5107080 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107959 | 基板 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5110783 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106942 | メモリリード制御回路 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5111057 | 制御装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5111191 | データ処理装置、画像符号化復号装置、データ処理システム及び画像処理装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107627 | 半導体ウェーハ、および、それを用いた半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108690 | ＤＭＡ装置及びＤＭＡ転送方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107541 | 絶縁膜形成方法および半導体装置の製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106513 | 薄膜磁性体記憶装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108548 | 受信装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107839 | 半導体装置 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5107532 | シミュレーション方法およびシミュレーションシステム、ならびにマスクパターンの修正方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5108408 | 半導体装置及びその製造方法 | 2012年12月26日 | |
| 特許 5106747 | パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び露光用マスクセット | 2012年12月26日 |
1067 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5107080 5107959 5110783 5106942 5111057 5111191 5107627 5108690 5107541 5106513 5108548 5107839 5107532 5108408 5106747
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ルネサスエレクトロニクス株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
12月1日(火) -
12月1日(火) -
12月2日(水) -
12月2日(水) -
12月3日(木) -
12月4日(金) -
12月7日(月) -
12月7日(月) - 大阪 大阪市
12月10日(木) -
12月7日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒451-6009 愛知県名古屋市西区牛島町６番１号 名古屋ルーセントタワー９階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
岐阜県各務原市つつじが丘１丁目１１１番地 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 コンサルティング
〒１６６－０００３ 東京都杉並区高円寺南２－５０－２ ＹＳビル３Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
