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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第2569位 8件
(2022年:第3931位 5件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第2734位 6件
(2022年:第10281位 1件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2023-537865 | 基板の化学及び/又は電解表面処理中に基板を保持するメッキフレーム装置 | 2023年 9月 6日 | |
特表 2023-535827 | 基板の化学及び/又は電解表面処理のためのプロセス流体の分配システム | 2023年 8月21日 | |
特表 2023-530807 | 基板の化学的および/または電解的表面処理用プロセス流体のシールド体システム | 2023年 7月20日 | |
特開 2023-62067 | 化学および電解の少なくとも一方の表面処理のためのシステム | 2023年 5月 2日 | |
特表 2023-518573 | プロセスステーションにおける基板の化学表面処理および電解表面処理の少なくとも一方のための方法 | 2023年 5月 2日 | |
特表 2023-510024 | 回転可能な基板の化学及び/又は電解表面処理用の処理流体のための分配システム | 2023年 3月10日 | |
特表 2023-505619 | 基板を化学及び電気分解の双方又は何れか一方により表面処理する処理流体に対する分配システム | 2023年 2月 9日 | |
特表 2023-501797 | 基板の化学的及び/又は電解的表面処理用電気化学的堆積システム | 2023年 1月19日 |
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2023-537865 2023-535827 2023-530807 2023-62067 2023-518573 2023-510024 2023-505619 2023-501797
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