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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第12781位 1件
(2019年:第7654位 2件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第3265位 4件
(2019年:第8774位 1件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6776303 | プラズマ処理のためのシステム、方法、および非一過性プロセッサ読み取り可能な媒体 | 2020年10月28日 | |
特許 6666939 | 大域最適値を見つけるための周波数同調システム | 2020年 3月18日 | |
特許 6666470 | RF発生器における周波数同調のための装置 | 2020年 3月13日 | |
特許 6640368 | RF発生器における制御されたオーバーシュートのための装置 | 2020年 2月 5日 |
4 件中 1-4 件を表示
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6776303 6666939 6666470 6640368
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4月16日(水) - 東京 大田
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4月18日(金) - 北海道 千代田区
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4月23日(水) - 東京 千代田区
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4月24日(木) - 東京 港区
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